25年來重大更新！尼康推出5倍微縮的i-line步進式光刻機

8月31日消息，尼康公司通過官網發布公告稱，將推出型號為“NSR-2205iL1”的5倍縮小的 i-line 步進式光刻機，該產品將用于制造電力和通信半導體以及 MEMS 等各種器件。與現有的尼康 i-line曝光系統相比，NSR-2205iL1 具有出色的經濟性，無論晶圓材料如何，都可以優化各種半導體器件的生產。預計將于2024 年夏季上市銷售。

尼康表示，NSR-2205iL1 代表了尼康5倍步進技術在過去二十五年中的最重大的更新，將可直接響應客戶對這些在芯片制造中發揮重要作用的光刻系統的需求。

隨著電動汽車、高速通信和各種 IT 設備變得越來越普遍，對支持它們的半導體的需求呈指數級增長。這些半導體必須執行各種具有挑戰性的功能，因此，設備制造商需要專門的基板和曝光系統來制造這些芯片。尼康此前經常通過翻新以前擁有的步進機等方式來滿足這些光刻系統要求。然而，翻新步進器的供應可能有限，可能不足以滿足客戶的需求。因此，為了提供額外的靈活曝光設備解決方案，尼康推出了新型 5x i-line 步進式光刻機NSR-2205iL1 ，利用與客戶密切合作獲得的知識，為他們提供專門的解決方案，以滿足市場需求并解決步進式光刻機供應有限和老化的問題。除了擴展各種選項以滿足客戶的多樣化需求外，這款新開發的 i-line 步進式光刻機還將支持長期的設備生產。

從官方公布的參數來看，NSR-2205iL1 曝光光源是 i-line（365nm波長），分辨率≤350nm，NA為 0.45，最大曝光場22 mm x 22 mm。

主要優點

1、提供卓越的經濟承受能力，同時支持各種需求

NSR-2205iL1 將提供高生產率，同時通過使用多點自動對焦 (AF) 的高精度晶圓測量、先進的晶圓平臺調平（通過傾斜放置晶圓的工作臺來校正曝光期間曝光圖像平面和基板表面之間的偏移的機構）和寬 DOF（擴展的焦深范圍）來優化各種半導體制造工藝的良率水平。此外，由于其晶圓厚度和尺寸兼容性、高晶圓翹曲容限以及靈活的功能（包括但不限于支持 碳化硅和 氮化鎵加工），它非常適合各種應用。NSR-2205iL1 i-line 步進機將提供卓越的經濟性，同時滿足芯片制造商的多樣化要求。

2、與現有產品和晶圓廠運營兼容

NSR-2205iL1 可以與現有晶圓廠運營兼容，在晶圓廠中擁有尼康 i-line 曝光系統的客戶可以繼續利用現有的資產和運營，例如光掩模和晶圓曝光解決方案。此外，NSR-2205iL1 還可以補充或替換不再滿足制造要求的現有步進式光刻機。

3、專為長期使用和可持續性而設計

NSR-2205iL1 可以放心地長期使用，因為其設計采用通用商用組件，比以往更容易采購零件，并為未來提供更可持續的光刻解決方案。

編輯：芯智訊-林子