傳中芯國際5納米良率提升至60%-70%

近日，微博賬號“定焦數(shù)碼”爆料稱，中芯國際5納米制程的良率已提升至60%-70%。該傳言遭到X賬號Jukanlosreve的強烈質(zhì)疑，稱其為編造內(nèi)容。據(jù)Jukanlosreve此前透露，中芯國際計劃在2025年前完成5納米芯片開發(fā)，但由于采用深紫外光（DUV）微影設(shè)備而非極紫外光（EUV）設(shè)備，預(yù)計成本將增加50%。

“定焦數(shù)碼”還指出，中芯國際5納米良率與三星電子3納米GAA制程相當(dāng)。后者已被用于生產(chǎn)Galaxy Z Flip 7搭載的Exynos 2500芯片。然而，Wccftech報道稱，基于中芯國際目前的技術(shù)進(jìn)展，Jukanlosreve對傳言的駁斥并不令人意外。