臺(tái)積電6nm明年第一季度進(jìn)入試產(chǎn) 年底前量產(chǎn)

近日臺(tái)積電透露6納米制程技術(shù)明年第一季度進(jìn)入試產(chǎn)，明年年底前量產(chǎn)。該公司表示，其極紫外光(EUV)微影技術(shù)之7納米強(qiáng)效版(N7+)制程已協(xié)助客戶產(chǎn)品大量進(jìn)入市場(chǎng)。導(dǎo)入EUV微影技術(shù)的N7+奠基于該公司成功的7納米制程之上，為6納米和更先進(jìn)制程奠定良好基礎(chǔ)。

臺(tái)積電6nm明年第一季度進(jìn)入試產(chǎn)

臺(tái)積電稱，隨著EUV微影技術(shù)的進(jìn)一步應(yīng)用，N6的邏輯密度將比N7提高18%，而N6憑借與N7完全相容的設(shè)計(jì)法則，也可大幅縮短客戶產(chǎn)品上市的時(shí)間。

臺(tái)積電成立于1987年，是全球最大的晶圓代工半導(dǎo)體制造廠，客戶包括蘋果、高通等。其總部位于臺(tái)灣新竹的新竹科學(xué)工業(yè)園區(qū)。

（本文圖片源自網(wǎng)絡(luò)）