ASML發(fā)布Q2季度財(cái)報(bào) EUV光刻機(jī)產(chǎn)能大增

掌握全球唯一EUV光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財(cái)報(bào)，當(dāng)季營收25.68億歐元，其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元，總計(jì)出貨了41臺光刻機(jī)，其中EUV光刻機(jī)7臺。

在Q2季度中，ASML公司獲得了10臺EUV光刻機(jī)訂單，而且這些訂單不只是用于邏輯半導(dǎo)體工藝，還首次用于存儲芯片——在此之前，三星表示將在未來的內(nèi)存芯片生產(chǎn)中使用EUV光刻機(jī)，ASML的存儲芯片訂單應(yīng)該是來自三星了。

對于EUV光刻機(jī)，目前最主要的問題還是產(chǎn)能不足，ASML現(xiàn)在出售的光刻機(jī)型號是NXE:3400B，每小時(shí)晶圓產(chǎn)能是150到155wph，不過Q2季度中ASML已經(jīng)升級到了NXE:3400C型號，產(chǎn)能提升到了170wph，已經(jīng)有客戶做到了每天生產(chǎn)2000片晶圓的水平了。

根據(jù)ASML的路線圖，未來EUV光刻機(jī)的產(chǎn)品還會再有一次提升，每小時(shí)晶圓產(chǎn)能最終將達(dá)到185wph，不過要等到2021到2022年了。

再往后的話，EUV光刻機(jī)就要進(jìn)入下一代了，提升光刻分辨率要靠新的物鏡系統(tǒng)，ASML前幾年就投資了蔡司光學(xué)20億美元，雙方將共同研發(fā)NA=0.55的High NA（高數(shù)值孔徑）透鏡，可以進(jìn)一步提升光刻機(jī)的分辨率。

根據(jù)ASML的計(jì)劃，High NA（高數(shù)值孔徑）透鏡的新一代EUV光刻機(jī)與在3nm節(jié)點(diǎn)引入，時(shí)間點(diǎn)是2023年到2025年，距離現(xiàn)在還早呢。