首次加入EUV極紫外光刻！臺積電二代7nm+工藝已量產

臺積電官方宣布，已經開始批量生產7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業第一次量產EUV極紫外光刻技術，意義非凡，也領先Intel、三星一大步。

臺積電表示，7nm+ EVU工藝的良品率已經提高到和初代7nm同樣的水平，將今年帶動7nm工藝芯片的產能顯著提升。

臺積電預計2019年的總產能折合可達1200萬塊300mm晶圓，其中7nm工藝的會有100萬塊，比去年猛增150％。

根據此前消息，華為麒麟985將率先應用臺積電7nm+ EUV工藝，有望用于Mate 30系列。盡管遭遇美國限令，但是臺積電方面已經明確表示，至少目前不會停止向華為供貨。

另外，蘋果的A13也已經鎖定臺積電7nm+，今年的新iPhone就靠它了。

臺積電還透露，正穩步推進下一代5nm工藝，全面應用EUV技術，已經開始風險性試產，預計2020年第一季度量產。

位于臺灣南部科技園的新工廠Fab 18已經開始設備搬遷與安裝，將在明年投產時直接上馬5nm，并為未來的3nm工藝做好準備。

另外臺積電還有個過渡性質的6nm工藝，基于7nm改進而來，預計2020年第一季度試產，非常適合現有7nm工藝用戶直接升級。