英特爾重啟Fab 42非為擴產 或鎖定導入7納米制程用EUV設備

　　為響應川普(Donald Trump)新政，英特爾(Intel)宣布將投入70億美元重啟位于亞歷桑納州的Fab 42晶圓廠。分析師認為，英特爾啟用Fab 42的主要目的或許不在于擴大產能，而是要引進7納米制程所需的極紫外光(EUV)設備。

　　根據EE Times報導，Fab 42啟用后，會將目標瞄準7納米制程，并可望在3~4年內創造3,000個高科技、高薪資的工作機會。盡管英特爾尚未透露將于哪個時間點開始采用EUV微影技術，IC Insights分析師認為，EUV微影將是英特爾7納米成功的關鍵，因此英特爾很可能趁著重啟Fab 42的機會，引進EUV設備。

　　Lineback指出，英特爾需要通過這項消息，讓外界知道其先進制程并未落后于臺積電或三星電子(Samsung Electronics)。盡管英特爾其他晶圓廠也會在2020年前投入7納米制程，但Fab 42將是英特爾首個7納米量產晶圓廠。此外，在收購Altera的業務后，Fab 42也可能被英特爾用來從事FPGA生產。

　　美國前總統歐巴馬(Barack Obama)曾稱Fab 42象征著美國制造的未來，但Fab 42廠房自2013年底落成后，便一直處于閑置狀態，原因就在于市場沒有出現足夠的需求。

　　Fab 42原本是為了發展14納米制程所打造，然而英特爾的Tick-Tock機制并未能趕上2年一次的更新周期，且其智能手機處理芯片的發展也不盡理想，再加上PC市場萎縮，以及14納米制程良率問題，都導致Fab 42遲遲無法啟用。盡管英特爾稱霸了服務器市場，但服務器對于矽芯片并沒有太多的需求。

　　然而有鑒于低功率運算裝置的物聯網相關需求將在未來3~4年內快速成長，Fab 42也有了上場的機會。不過Insight-64分析師仍強調，在PC市場不斷衰退之際，安裝EUV設備應才是英特爾重啟Fab 42的主要目的。

　　英特爾將于2017年從14納米步入10納米制程。到了2020年時，Fab 42所安裝的EUV曝光設備產出，就可望追趕上制程發展的腳步。

　　英特爾執行長Brian Krzanich曾在一封給員工的信中表示，Fab 42所采用的7納米制程將是全世界最先進的半導體制程技術，并代表了摩爾定律(Moore’s Law)的未來。英特爾的7納米制程芯片將被運用在最復雜的電腦、資料中心、傳感器與其他高科技裝置上，推動人工智能(AI)、先進車輛、交通服務、醫療研究等領域的發展，而這需要摩爾定律能有所提升。

　　英特爾發言人指出，投資在Fab 42晶圓廠的70億美元經費中，有很大一部分會運用在工具及設備系統上。除了EUV微影設備外，Fab 42的7納米制程也將需要光罩生產、檢驗設備、CMP、蝕刻、晶圓清洗等工具設備。分析師指出，為了掌握7納米制程IC的優勢，后端的封裝、組裝都需有進一步發展。