諾發在臺積電供應鏈管理論壇上獲得優秀供應商獎

 
諾發公司的VECTOR系統憑借其技術創新和高效生產力被評為最佳CVD產品

諾發系統有限公司(Novellus Systems, Inc., Nasdaq股票代碼：NVLS)宣布，該公司的VECTOR®系統在臺積電2006供應鏈管理論壇上獲得TSMC頒發的“2006年度優秀CVD供應商獎”。350多家TSMC供應商參加了這次活動，諾發公司是獲得“2006年度優秀供應商獎”殊榮的十一家公司之一。諾發公司的VECTOR 300mm等離子增強化學氣相淀積（PECVD）設備被半導體制造商所廣泛采用，用于高性能IC電介質薄膜的淀積。該系統在薄膜技術上取得了諸多技術革新，同時具有很高的生產力，因此被TSMC所認可。

TSMC總裁兼CEO蔡力行博士說：“隨著我們在半導體產業領先地位的加強，供應商繼續為我們開發低成本和高效的設備、零部件和材料，從而使合作雙方進一步增強競爭力，共同邁向成功的未來。”

諾發系統有限公司電介質事業部高級副總裁Tim Archer說：“諾發公司致力于為代工廠提供不斷改善的生產靈活性。由于VECTOR在薄膜技術上的技術革新和高效生產力，TSMC可以在同一工廠內利用VECTOR進行多個工藝時代產品的生產。我們非常榮幸能夠獲得這一殊榮。我們將繼續努力與TSMC一起合作，為該公司在65nm以及65nm以下技術節點取得不斷成功提供有力的支持。”

諾發公司從2000年開始推出VECTOR系統，該系統能夠淀積雙嵌入式結構所需的各種電介質薄膜。VECTOR是全球裝機量最大的300mm CVD系統，前10大半導體公司中有9家公司采用了該系統。VECTOR設備最初是為130nm和90nm生產設計的，通過技術更新可以延伸到65nm技術節點，同時將產能提高達30%。