荷商艾司摩爾(ASML)可能有辦法解決全球半導體產業所面臨的問題：如何一面讓晶片保持現有尺寸，一面增加它們的性能。
半導體產業的過去發展均照著摩爾定律在走，這個由英特爾共同創辦人摩爾于1965年首度提出的定律指出，每隔兩年，晶片制造商就能使傳統微處理器的電晶體數目倍增，且性能也會隨之提升。
不過，英特爾執行長科再奇去年警告，經過幾十年的快速發展，未來半導體業每隔兩年半業才會出現過去那種進展。
ASML則相信自家突破性的技術，能延后半導體產業步入衰敗期的時間。主導ASML相關業務的梅靈
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ASML 摩爾定律
盡管與國外大廠有技術差距，但國內的設備廠商正處于一個進步、崛起的階段。
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半導體 ASML
北京時間9月8日消息，據路透社報道，三星電子周四表示，將出售荷蘭半導體設備制造商ASML控股的部分股份。
交易條款清單顯示，三星將以大約6.06億歐元出售630萬股ASML股票。三星并未披露此次交易的財務條款。
三星稱，此次股份出售不會影響兩家公司的戰略伙伴關系。三星在8月16日提交的監管文件中稱，公司持有1260萬股ASML股票，持股比例為2.9%。
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三星 ASML
半導體設備廠商不只大者恒大，市占愈發傾向于大廠，如果科林與艾司摩爾并購案順利通過，未來半導體設備廠商三強鼎立的局面或也可能出現。
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ASML 漢微科
全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)昨(20)日宣布，在臺積電(2330)、英特爾及三星三大晶圓廠力挺下，最先進的極紫外光(EUV)已連續四周平均妥善率逾八成，本季底前將完成三臺最新的EUV系統出貨。
EUV堪稱半導體設備發展以來最昂貴的設備，一臺售價高達9,000 萬歐元(約新臺幣36億元)，這項設備也是半導體產業向更先進制程發展最關鍵設備，因此發展進度，一直各界關注焦點。
臺積電共同執行長暨劉德音表示，臺積電本季將會再增購一臺EUV設備，不過臺積電將會于5奈米制程才會導入生產
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ASML 臺積電
微影設備制造商ASML近期宣布，接獲美國一家主要客戶十五部EUV機臺訂單，并將于今年底開始陸續出貨;同時間，日本光阻材料大廠JSR也與IMEC合資成立新公司，致力生產EUV微影所需的光阻劑，為EUV微影技術的商用發展揭橥新的里程碑。
極紫外光微影(EUV Lithography)技術發展大有斬獲。半導體設備供應商艾司摩爾(ASML)日前公開宣布，該公司與美國一家主要客戶已簽屬協議書，將提供至少十五臺的最新一代EUV微影系統機臺，以支援不斷增加的制程開發活動和未來世代制程的試量產。
雙方交易
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ASML 微影系統
在電子業追求高速發展的今天，英特爾要放慢研發腳步了，這是表演的哪一出？當今技術進步付出的代價成級數級上升，效率的進步以及難以抵消研發的投入，所以需要放慢腳步，找到真正能夠降低成本的方式。
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英特爾 ASML
歐洲最大半導體設備供應商艾司摩爾控股公司(ASML Holding NV NL-ASML)預估第1季營收低于預期，并表示獲利能力將受到下一代極紫外光(EUV)系統訂單的箝制。
艾司摩爾今天在聲明稿中指出，預期2014年前3個月銷售凈額約14億歐元(18.8億美元)。相較之下，彭博社匯編12位分析師的預測均值為17.1億歐元。艾司摩爾預測毛利率42%左右，相較于調查預估中值42.5%。
艾司摩爾指出，首季利潤率預測包括EUV系統的負面影響，若不含EUV，利潤率將提高1.9個百分點。在
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ASML 半導體設備
艾司摩爾(ASML)與比利時微電子研究中心(IMEC)合作案再添一樁。雙方將共同設立先進曝光中心(Advanced Patterning Center, APC)，助力半導體產業突破10奈米(nm)以下先進奈米曝光制程技術關卡，讓微影(Lithography)技術及其設備更臻成熟，加速制程微縮技術的商用化。
ASML總裁暨執行長Martin van den Brink表示，長期以來，該公司與IMEC的合作，已促成半導體制程發展不斷突破;而此次的合作案，預期將進一步加快先進奈米制程技術及其相關設備
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10nm ASML
微影設備大廠ASML積極提升極紫外線(EUV)機臺技術的生產效率，在2012年購并光源供應商Cymer后，大幅提升光源效率，從2009年至今光源效率分別為2009年2瓦、2010年5瓦、2011年10瓦，2012年提升至20瓦，目前已達55瓦，每小時晶圓產出片數為43片，預計2013年底前，可達到80瓦的目標，2015年達250瓦、每小時產出125片。
半導體生產進入10納米后，雖然可采用多重浸潤式曝光方式，但在一片晶圓上要進行多次的微影制程曝光，將導致生產流程拉長，成本會大幅墊高，半導體大廠為
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ASML EUV
推動半導體業進步有兩個輪子，一個是工藝尺寸縮小，另一個是硅片直徑增大，而且總是尺寸縮小為先。由半導體工藝路線圖看，2013年應該進入14納米節點，觀察近期的報道，似乎已無異議，而且仍是英特爾挑起大樑。盡管摩爾定律快“壽終正寢”的聲音已不容置辯，但是14nm的步伐仍按期走來，原因究竟是什么?
傳統光刻技術與日俱進
當尺寸縮小到22/20nm時，傳統的光刻技術已無能力，必須采用輔助的兩次圖形曝光技術。
提高光刻的分辨率有3個途徑：縮短曝光波長、增大鏡頭數值孔徑NA
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ASML 半導體
極紫外光(EUV)微影技術將于2015年突破量產瓶頸。傳統浸潤式微影技術在半導體制程邁入1x奈米節點后將面臨物理極限，遂使EUV成為產業明日之星。設備供應商艾司摩爾(ASML)已協同比利時微電子研究中心(IMEC)和重量級晶圓廠，合力改良EUV光源功率與晶圓產出速度，預計2015年可發布首款量產型EUV機臺。
ASML亞太區技術行銷協理鄭國偉提到，ASML雖也同步投入E-Beam基礎研究，但目前對相關設備的開發計劃仍抱持觀望態度。
ASML亞太區技術行銷協理鄭國偉表示，ASML于2012年
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ASML EUV
ASML和Cymer上周五宣布，已經完成此前宣布的兩家合并計劃，ASML成功收購了Cymer公司，作為該合并結果，Cymer普通股以20.00美元現金外加1.1502的 ASML普通股權益，ASML的股本也將因此增加大約3650萬股。
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ASML 半導體
全球最大的半導體制造設備供應商荷蘭ASML今天披露說，他們將按計劃在2015年提供450毫米晶圓制造設備的原型，Intel、三星電子、臺積電等預計將在2018年實現450毫米晶圓的商業性量產，與此同時，極紫外(EUV)光刻設備也進展順利，將在今年交付兩套新的系統。
ASML在一份聲明中稱：“在客戶合作投資項目的支持下，我們已經完成了用于極紫外、沉浸式光刻的450毫米架構的概念設計，將在2015年交貨原型，并兼容2018年的量產，當然如果整個產業來得及的話。”
Int
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ASML 半導體 晶圓
歐洲半導體設備大廠荷商艾司摩爾(ASML)上季營收凈利雙雙優于預測，并且維持今年前景看法，帶動市場看好芯片業將展現復蘇預期，推升歐洲芯片股周四大漲。
艾司摩爾周四大漲4.85%至55.1歐元，在歐洲科技指數SX8P中表現居冠，德國芯片業者英飛凌(Infineon)躍升2.6%至5.58歐元，為漲幅第二大成份股。
艾司摩爾上季財報周三揭曉，營收年減29%至8.92億歐元，稅前息前凈利年減66%至1.07億歐元，盡管數據皆向下衰退，但雙雙優于市場預期。
艾司摩爾預估本季營收約達11億歐元
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