- 載具對于曝光機發揮保護、運送和存儲光罩等功能十分重要。家登精密多年來致力于研究曝光機載具，并為全球最大的半導體設備制造商ASML提供載具相關技術。
我們主要研究EUV的配套技術，例如EUV的載具以及EUV的配套光罩，是7nm向5nm進階的突破口。隨著5nm技術的升級，EUV的重要性逐漸凸顯出來，而載具的研究也越發緊迫。過去幾年，家登精密一直專心做一件事，那就是載具的配套研究。去年，我們的技術產品已經達到國際先進水平，這是一個值得自豪的成績。未來，7nm工藝逐漸向5nm升級，技術的研究會越來越困難
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ASML EUV
- 據南京日報報道，8月18日，全球最大芯片光刻設備市場供貨商阿斯麥(ASML)在南京的分公司正式開業。作為臺積電的重要合作伙伴及上游供應商，該企業選擇落戶在南京江北新區研創園孵鷹大廈。
跟隨臺積電的步伐，ASML在南京的布局在一年前啟動。去年11月考察江北新區研創園后，被園區前端的產業定位、創新的整體設計、完善的軟硬件配套所吸引。今年8月，ASML南京分公司完成了750平米辦公設施搭建，以及服務工程師、裝機工程師、應用工程師等多職能覆蓋的團隊組建。談及ASML未來對中國半導體市場前景的展望，該公司
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ASML 臺積電
- 全球最大芯片光刻設備市場供貨商阿斯麥 (ASML) 公布最新2017第二季財報。ASML表示，由于不論邏輯芯片和DRAM客戶都積極準備將EUV導入芯片量產階段，EUV光刻機目前第二季已累積27臺訂單總計28億歐元。
ASML 第二季營收凈額 (net sales)21億歐元，毛利率(gross margin)為45%。在第二季新增8臺EUV系統訂單，讓EUV光刻系統的未出貨訂單累積到27臺，總值高達28億歐元。
ASML預估2017第三季營收凈額(net sales)約為22億歐元，毛
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ASML EUV
- 全球最大芯片光刻設備市場供貨商阿斯麥(ASML)近日公布2017第二季財報。ASML第二季營收凈額21億歐元，毛利率為45%。在第二季新增8臺EUV系統訂單，讓EUV光刻系統的未出貨訂單累積到27臺，總值高達28億歐元。
預估2017第三季營收凈額約為22億歐元，毛利率約為43%。因為市場需求和第二季的強勁財務表現，ASML預估2017全年營收成長可達25%。
ASML總裁暨執行長溫彼得指出:“ASML今年的主要營收貢獻來自內存芯片客戶，尤其在DRAM市場需求的驅動下，這部分的
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EUV ASML
- ASML是集合了西方光學應用科學與半導體尖端制造設備技術于一體的科技龐然大物，它的影響力是任何一個國家在半導體領域都無法忽視的。
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ASML 光刻機
- 北京時間4月24日晚間消息，尼康今日宣布，已對荷蘭半導體行業光刻系統供應商阿斯麥(ASML)和德國光學及光電子學設備廠商卡爾蔡司(Carl Zeiss)提起訴訟，指控這兩家公司未經授權而使用其光刻技術。
尼康稱，已在荷蘭、德國和日本對阿斯麥和卡爾蔡司提起訴訟。卡爾蔡司是阿斯麥的光學設備供應商。尼康在一份聲明中稱：“阿斯麥和卡爾蔡司在未經尼康許可的前提下，在阿斯麥的光刻系統中使用尼康的專利技術。”
當前，光刻系統被廣泛應用于制造半導體，而阿斯麥又主導著半導體光刻機市場
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尼康 ASML
- SEMICON China 2017開幕日即3月14日，上海微電子裝備(集團)股份有限公司(后簡稱“SMEE”)宣布，SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰略合作備忘錄(MoU)，為雙方進一步的潛在合作奠定了基礎。
根據這項合作備忘錄，ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統的特定模塊或半導體行業相關產品進行采購的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發中心(ICRD)宣布合作之后，進一步深入參與中國的IC產業的發展。
光刻機被稱
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光刻機 ASML
- 3月14日，上海微電子裝備(集團)股份有限公司(SMEE)宣布，與世界領先的芯片制造設備的領先廠商阿斯麥 (ASML) 簽署戰略合作備忘錄(MoU)，為雙方進一步的潛在合作奠定了基礎。
根據這項合作備忘ASML和SMEE將探索就ASML光刻系統的特定模塊或半導體行業相關產品進行采購的可能性。
“全球IC行業都在積極尋求技術藍圖進來一步縮小芯片尺寸，為商業和消費者用戶提供更性能更強但節能的電子組件。這一技術藍圖的有效執行需要精密復雜的制造技術，這只能靠各領先公司、研究機構和院
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SMEE ASML
- 摩爾定律(Moore’s Law)自1970年代左右問世以來，全球半導體產業均能朝此一定律規則前進發展，過去數十年來包括光微影技術(Photolithography)等一系列制程技術持續的突破，才得以讓半導體產業能依照摩爾定律演進，進而帶動全球科技產業研發持續前進。
但為延續產業良性發展，光是依賴于傳統微影技術仍不夠，因此芯片制造商也正在苦思試圖進行一次重大且最具挑戰的變革，即發展所謂的“極紫外光”(EUV)微影技術，該技術也成為臺積電、英特爾(Intel)等
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ASML EUV
- 日本光學及半導體設備大廠尼康(Nikon)未來可能進行人事調整，以數位相機及半導體設備事業為主，希望轉型重建企業經營。
根據報導，日本半導體事業始于日本政府的產業計劃，1970年代由官方與民間合作的結果，建立了從半導體設備到半導體生產線的完整事業。當時名為日本光學工業的尼康，借其光學技術推出先進的曝光裝置，制造精密半導體的線路，是日本半導體產業在1980~1990年代與美國平起平坐的主因。
但是，1984年從荷蘭電機大廠飛利浦(Philips)獨立的ASML，由于積極與外界學校及廠商合作，
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尼康 ASML
- 全球芯片光刻技術領導廠商阿斯麥(ASML) 和德國卡爾蔡司 (ZEISS) 旗下的蔡司半導體有限公 司 (Carl Zeiss SMT) 11月3日共同宣布，由 ASML以10億歐元現金收購 Carl Zeiss SMT的24.9%股權，以強化雙方在半導體光刻技術方面的合作，發展下一代EUV光刻系統，讓半導體行業得以用更低的成本制造更高效能的微芯片。目前雙方并沒有進一步股權交換的計劃。
Carl Zeiss SMT是ASML最重要的長期策略合作伙伴，30 多年來，為ASML的光刻設備提供最關火鍵
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ASML 蔡司
- 荷商艾司摩爾(ASML)可能有辦法解決全球半導體產業所面臨的問題：如何一面讓晶片保持現有尺寸，一面增加它們的性能。
半導體產業的過去發展均照著摩爾定律在走，這個由英特爾共同創辦人摩爾于1965年首度提出的定律指出，每隔兩年，晶片制造商就能使傳統微處理器的電晶體數目倍增，且性能也會隨之提升。
不過，英特爾執行長科再奇去年警告，經過幾十年的快速發展，未來半導體業每隔兩年半業才會出現過去那種進展。
ASML則相信自家突破性的技術，能延后半導體產業步入衰敗期的時間。主導ASML相關業務的梅靈
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ASML 摩爾定律
- 盡管與國外大廠有技術差距，但國內的設備廠商正處于一個進步、崛起的階段。
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半導體 ASML
- 北京時間9月8日消息，據路透社報道，三星電子周四表示，將出售荷蘭半導體設備制造商ASML控股的部分股份。
交易條款清單顯示，三星將以大約6.06億歐元出售630萬股ASML股票。三星并未披露此次交易的財務條款。
三星稱，此次股份出售不會影響兩家公司的戰略伙伴關系。三星在8月16日提交的監管文件中稱，公司持有1260萬股ASML股票，持股比例為2.9%。
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三星 ASML
- 半導體設備廠商不只大者恒大，市占愈發傾向于大廠，如果科林與艾司摩爾并購案順利通過，未來半導體設備廠商三強鼎立的局面或也可能出現。
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