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        彩色濾光片實現(xiàn)OLED彩色化的瑕疵分析*

        作者:莊筱磊 李榮玉 上海交通大學(xué)電子信息與電氣工程學(xué)院 施展 劉暢 張浩 余峰 張建華 上海大學(xué)廣電電子平板顯示聯(lián)合工程技術(shù)中心 時間:2009-08-07 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

          實驗結(jié)果與討論

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/96985.htm

          將RGB三色排列的矩陣基板和基板按照同樣生產(chǎn)流程進行清洗、光刻、刻蝕等光刻工藝,達到生產(chǎn)標準進入鍍膜工藝,對兩種類型的基板按照其相應(yīng)生產(chǎn)工藝分別制作實現(xiàn)彩色化RGB三色排列的器件和白光器件,進行老化過程后再進行光電參數(shù)特性的比較。各器件鍍膜工藝如下,材料均為作為生產(chǎn)使用所購置的商品化量產(chǎn)材料。

          RGB三色排列結(jié)構(gòu):HIL/NPB (25nm)/Red/Green/Blue/Alq3 (30nm)/LiF (1nm)/Al (150nm)。

          白光+結(jié)構(gòu):HIL/NPB (25nm)/Blue/Orange/Alq3 (30nm)/LiF (1nm)/Al (150nm)。

          光刻工藝為標準生產(chǎn)設(shè)備:清洗,涂膠,曝光,顯影,刻蝕,脫膜等工藝流程。并分別進行UV Ozone紫外臭氧處理;真空條件下RF plasma O2處理。有機材料蒸發(fā)速率為0.1~0.5nm/s不等,陰極蒸發(fā)速率為0.5nm/s;成膜真空度大約為8×10-5Pa。

          將上述不同方式制作完成的顯示器件進行光電性能參數(shù)的測試;同時對兩者的基板和基板表面進行表面平整度的測試。然而在進行測試過程當中,發(fā)現(xiàn)在工作中的所有的白光+CF器件樣品表面都不同程度地出現(xiàn)了黑點,而且隨著點亮和存儲時間的增加,器件表面出現(xiàn)的黑點越來越多,也越來越大;從最初的小黑點缺陷到后來的黑洞直至占到整個發(fā)光像素一半以上的面積(圖3)。

          對于出現(xiàn)這樣的缺陷或瑕疵(defect),針對的器件還沒有明確的標準來限定,而對于一般的顯示器件來說,例如液晶顯示器件,瑕疵的定義:“在工作或非工作的狀態(tài)下,有效屏幕上的缺陷即為屏幕瑕疵。”其中對瑕疵的大小長短等等都有明確的界定。當瑕疵達到一定程度,就可以認定其為不合格的產(chǎn)品,不能上市使用。因此在這里沿用LCD的檢驗標準,那么白光+CF的器件是屬于不合格的產(chǎn)品。

          而RGB三色排列的OLED器件經(jīng)過點亮測試以及存儲的過程中,并沒有出現(xiàn)上述嚴重的黑點瑕疵。兩者基本的材料、制作工藝和制造設(shè)備都一樣,不同之處也只有兩處。



        關(guān)鍵詞: OLED ITO CF 平面粗糙度 200908

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