新方法可能制造出更細(xì)微的芯片紋路

　　問題的關(guān)鍵在于使用干涉圖樣，不同波長的相干光在不同位置會(huì)彼此增強(qiáng)或抵消。研究者將這種對光反應(yīng)變色的材料，材料改變顏色后，便會(huì)對對應(yīng)的光線透明。曝光時(shí)用一對圖樣的蒙板，各自采用不同波長的光同時(shí)進(jìn)行曝光。當(dāng)一種波長的亮線與另一種波長的暗線對應(yīng)交疊時(shí)，極細(xì)小的線條就產(chǎn)生了。這一層材料便可作為蒙板，用第一種波長的光線照明，就像用負(fù)片在相紙上沖洗出照片一樣，在底層材料上留下圖樣。

　　這個(gè)研究是由電子學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室工程師Rajesh Menon和化學(xué)系研究生Trisha Andrew以及電子工程與計(jì)算機(jī)科學(xué)系的研究生Hsin-Yu共同完成的，研究的論文已經(jīng)發(fā)表在4月10日的《科學(xué)》雜志上。

這項(xiàng)了不起的新技術(shù)，研究人員成為吸光率調(diào)制，使得制造出所用光線波長十分之一粗細(xì)的線條成為可能。成功實(shí)現(xiàn)這一過程的部分關(guān)鍵在于找到合適的光敏材料，其在最初曝光之后透明與不透明區(qū)域都應(yīng)保持穩(wěn)定。

使用這種方法，研究團(tuán)隊(duì)制造出了36納米寬的線條，并宣稱他們還可以制造出許多同樣大小間隔的線條。

Menon說，這種技術(shù)會(huì)對芯片制造帶來顯著的沖擊，也會(huì)使依賴于納米尺度技術(shù)的新興領(lǐng)域的研究工作成為可能，包括納米光子學(xué)，納米流體力學(xué)，納米電子學(xué)以及納米生物系統(tǒng)。

Menon已經(jīng)成立一個(gè)公司，以繼續(xù)這項(xiàng)技術(shù)的研發(fā)，他期望能在5年內(nèi)實(shí)現(xiàn)商用化。

但這并不是這一技術(shù)唯一的潛在運(yùn)用，Menon稱他的團(tuán)隊(duì)正在尋求這套系統(tǒng)在成像系統(tǒng)中的可能運(yùn)用，有可能使納米尺度的新型顯微鏡成為可能，這在生物學(xué)與材料科學(xué)中將有巨大應(yīng)用前景。同時(shí)，他也在尋求使用這種技術(shù)把類似圖案的尺度降低到單個(gè)分子的大小。