HBM火熱效應 DRAM下半年 可望供不應求
三星、SK海力士及美光等國際內存巨擘,皆積極投入高帶寬內存(HBM)制程,法人表示,在產能排擠效應下,下半年DRAM產品恐供不應求,預期南亞科、威剛及十銓等業者受惠。
本文引用地址:http://www.104case.com/article/202405/459011.htm據TrendForce研究,DRAM原廠提高先進制程投片,產能提升將集中今年下半年,預期1alpha nm(含)以上投片,至年底將占DRAM總投片比重約40%。
由于HBM獲利表現佳,加上需求續增,生產排序最優先。以HBM最新發展進度來看,2024年HBM3e將是市場主流,集中在2024年下半年出貨。
SK海力士依舊是主要供貨商,與美光均采1beta nm制程,兩家業者現已出貨輝達(NVIDIA);三星則采用1alpha nm制程,預期2024年第二季完成驗證,于年中開始交付。
PC、服務器、智能型手機三大應用單機搭載容量增長,對先進制程的消耗量也逐季提升,其中,又以服務器容量提升最高,隨著Intel、AMD新平臺Sapphire Rapids、Genoa量產后,其內存規格僅能采用DDR5,預期2024年DDR5滲透率至年底將逾50%。
HBM3e出貨將集中下半年,期間同屬內存需求旺季,DDR5與LPDDR5(X)預期需求也將看增。在HBM投片比重擴大的情況下,將使得產出有限,下半年產能配置,將會是供給是否充足的關鍵。
三星現有廠房年底產能大致滿載,新廠房P4L規劃于2025年完工,同時Line15廠區將進行制程轉換,由1Ynm轉換至1beta nm以上。
SK海力士M16產能將于2025年擴大,M15X規劃于2025年完工,并于年底量產。美光中國臺灣廠區估2025年恢復滿載,后續產能擴張將以美國為主,Boise廠區2025年完工并陸續移機,并計劃2026年量產。
由于NVIDIA GB200將于2025年放量,其規格為HBM3e 192/384GB,預期HBM產出將接近翻倍,各原廠將投入HBM4研發,因各家產能規劃皆以HBM為優先,在產能排擠效應下,DRAM產品恐供應不及。
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