Metryx和Intel合作開發(fā)20納米節(jié)點半導體工藝

　　英國質量計量設備廠商Metryx日前正式加入一項由歐洲廠商主導的半導體設備創(chuàng)新發(fā)展評估項目，在此合作框架下，Metryx將和Intel，IMEC等展開深入合作，為20納米節(jié)點半導體工藝開發(fā)提供高精度質量計量技術和設備。高精度質量計量技術用于監(jiān)控淀積工藝和其它引起質量細微變化的工藝步驟，也可以用來監(jiān)控由于高參雜注入導致光刻膠剝落而引起的硅損耗、襯底損壞等問題。