俄羅斯自研光刻機目標：2024年量產350nm，2026年量產65nm！

11月4日消息，根據俄羅斯媒體報道指出，俄羅斯本身正在研發生產芯片的光刻機。俄羅斯工業和貿易部副部長Vasily Shpak在接受媒體采訪時指出，2024年將開始生產350nm光刻機，2026年啟動用于生產130nm制程芯片的光刻機。光刻機的生產將在莫斯科、澤列諾格勒、圣彼得堡和新西伯利亞的現有工廠進行。

Vasily Shpak指出，光刻機對于半導體的生產極為重要，當前全球只有荷蘭ASML和日本Nikon這兩家公司能夠生產先進光刻機。一個簡單的邏輯就是，如果沒有半導體主權，那就沒有技術主權，這將導致國防安全和政治主權方面就非常脆弱。而現在俄羅斯已經掌握了使用國外國光刻機制造65nm芯片的技術，但因為外國公司被禁止向俄羅斯出口先進的光刻機，所以俄羅斯也正在積極開發自己的光刻機。

Vasily Shpak表示，2024年俄羅斯將撥款2,114億盧布（約合人民幣166.16億元）用于國內電子產品的開發，其將包括生產350nm制程芯片的光刻機，2026年將啟動用于生產130nm制程芯片的光刻機。而俄羅斯決定開發350nm到65nm光刻機的原因，在于這一技術范圍內的芯片多用于微控制器、電力電子、電信電路、汽車電子等方面上，這些應用大約占據了整個市場的60%。所以，這類光刻機在全世界市場的需求量很大，并且將在至少10年內有持續的需求。

另外，當被問到可能遭遇的阻力時，Vasily Shpak說，“我不想抱怨，所有的問題都不是問題，因為這關系到我們擁有哪些機會，以及所設定的目標。”

編輯：芯智訊-林子