俄羅斯自研光刻機目標：2024年量產(chǎn)350nm，2026年量產(chǎn)65nm！

11月4日消息，根據(jù)俄羅斯媒體報道指出，俄羅斯本身正在研發(fā)生產(chǎn)芯片的光刻機。俄羅斯工業(yè)和貿(mào)易部副部長Vasily Shpak在接受媒體采訪時指出，2024年將開始生產(chǎn)350nm光刻機，2026年啟動用于生產(chǎn)130nm制程芯片的光刻機。光刻機的生產(chǎn)將在莫斯科、澤列諾格勒、圣彼得堡和新西伯利亞的現(xiàn)有工廠進行。

Vasily Shpak指出，光刻機對于半導體的生產(chǎn)極為重要，當前全球只有荷蘭ASML和日本Nikon這兩家公司能夠生產(chǎn)先進光刻機。一個簡單的邏輯就是，如果沒有半導體主權，那就沒有技術主權，這將導致國防安全和政治主權方面就非常脆弱。而現(xiàn)在俄羅斯已經(jīng)掌握了使用國外國光刻機制造65nm芯片的技術，但因為外國公司被禁止向俄羅斯出口先進的光刻機，所以俄羅斯也正在積極開發(fā)自己的光刻機。

Vasily Shpak表示，2024年俄羅斯將撥款2,114億盧布（約合人民幣166.16億元）用于國內(nèi)電子產(chǎn)品的開發(fā)，其將包括生產(chǎn)350nm制程芯片的光刻機，2026年將啟動用于生產(chǎn)130nm制程芯片的光刻機。而俄羅斯決定開發(fā)350nm到65nm光刻機的原因，在于這一技術范圍內(nèi)的芯片多用于微控制器、電力電子、電信電路、汽車電子等方面上，這些應用大約占據(jù)了整個市場的60%。所以，這類光刻機在全世界市場的需求量很大，并且將在至少10年內(nèi)有持續(xù)的需求。

另外，當被問到可能遭遇的阻力時，Vasily Shpak說，“我不想抱怨，所有的問題都不是問題，因為這關系到我們擁有哪些機會，以及所設定的目標。”

編輯：芯智訊-林子