G7召開在即，美光科技將在日本投資5,000億日元！

#5月財經(jīng)新勢力#

據(jù)路透社報道，美光科技本周三表示，計劃在日本政府的支持下，未來幾年在極紫外線(EUV)光刻技術領域投資高達5,000億日元(37億美元)。

彭博社周三援引知情人士的話報道稱，美光(Micron)準備從日本政府獲得約2000億日元(14.8億美元)的財政補貼，以幫助其在日本生產(chǎn)下一代DRAM存儲芯片。

最新的極紫外光刻(EUV)光刻機將用于制造10納米技術節(jié)點DRAM芯片。美光表示，該公司將成為第一家將EUV技術引入日本生產(chǎn)的半導體公司，預計從2025年起，將在中國臺灣和日本工廠的10納米技術節(jié)點DRAM生產(chǎn)上使用EUV光刻機。

去年，這家美國存儲芯片制造商在其廣島工廠開始大規(guī)模量產(chǎn)新的高容量低功耗動態(tài)隨機存取存儲器(DRAM)芯片。

日本一直在努力重振其芯片行業(yè)，其全球市場份額已從上世紀80年代末的50%左右降至10%左右，而美國也越來越多地敦促其盟友共同努力，以對抗中國的芯片先進技術開發(fā)。

在G7峰會召開之前，日本首相也表態(tài)歡迎全球芯片制造商的更多投資。日本首相岸田文雄(Fumio Kishida)周四在七國集團(G7)峰會前與全球企業(yè)高管會面后表示，他歡迎并期待全球芯片制造商在日本進行更多投資，日本正努力重振其芯片行業(yè)。

在周五開始的七國集團領導人年度會議上，中國和半導體產(chǎn)業(yè)鏈將成為重要議題，美國越來越多地敦促其盟國對抗這個中國的芯片和先進技術發(fā)展。