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        揭秘臺(tái)積電沖刺“1nm”背后的技術(shù)秘密

        發(fā)布人:傳感器技術(shù) 時(shí)間:2023-01-01 來(lái)源:工程師 發(fā)布文章
        摩爾定律是半導(dǎo)體領(lǐng)域的行業(yè)發(fā)展規(guī)律,但近幾年各大頭部企業(yè)加速研發(fā),大有突破摩爾定律之勢(shì)。


        圖片 
        近日,臺(tái)積電的一條傳聞引爆行業(yè),摩爾定律是否就此將“失效”了呢? 有報(bào)道稱,目前正在推進(jìn)3nm制程工藝量產(chǎn)的臺(tái)積電,同時(shí)也在推進(jìn)更先進(jìn)的2nm及1nm制程工藝。其中,2nm制程工藝預(yù)計(jì)在2025年下半年量產(chǎn),而1nm制程工藝已在謀劃工廠的建設(shè)事宜。 臺(tái)積電能否突破摩爾定律,提前實(shí)現(xiàn)2nm甚至1nm制程工藝的量產(chǎn),值得期待! 臺(tái)積電在美國(guó)最新申請(qǐng)的5件專利,其中或許就有減小線寬實(shí)現(xiàn)降低制程的“秘密”! 我們一起來(lái)看看5條詳細(xì)技術(shù)專利情況吧~



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