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半導(dǎo)體巨頭對high-NA EUV態(tài)度分化

EDA/PCB 半導(dǎo)體 high-NA EUV |2025-07-01
臺(tái)積電仍在評(píng)估ASML的“High-NA”，因?yàn)橛⑻貭栁磥頃?huì)使用

EDA/PCB 臺(tái)積電 ASML “High-NA” |2025-05-28
英特爾：ASML首批兩臺(tái)High-NA EUV設(shè)備已投產(chǎn)

EDA/PCB 英特爾 ASML High-NA EUV |2025-02-26
英特爾兩臺(tái)High NA EUV光刻機(jī)已投產(chǎn)，單季完成3萬片晶圓

EDA/PCB 英特爾 High NA EUV 光刻機(jī) 晶圓 |2025-02-26
英特爾：首批兩臺(tái)High-NA EUV 設(shè)備已投產(chǎn)

EDA/PCB 英特爾 High-NA EUV |2025-02-25
imec采用High-NA EUV技術(shù) 展示邏輯與DRAM架構(gòu)

EDA/PCB imec High-NA EUV DRAM |2024-08-13
價(jià)值3.83億美元！Intel拿下全球第二臺(tái)High NA EUV光刻機(jī)

EDA/PCB Intel High NA EUV 光刻機(jī) 晶圓 8納米 |2024-08-07
ASML第二臺(tái)High-NA設(shè)備，即將導(dǎo)入英特爾奧勒岡廠

EDA/PCB ASML High-NA 英特爾光刻機(jī) |2024-08-06
臺(tái)積電CEO秘訪ASML，High-NA EUV光刻機(jī)競賽提前打響？

臺(tái)積電 ASML High-NA EUV 光刻機(jī) |2024-05-30
High-NA EUV光刻機(jī)或?qū)⒊蔀橛⑻貭柕霓D(zhuǎn)機(jī)

EDA/PCB High-NA EUV 光刻機(jī) 英特爾芯片半導(dǎo)體 |2024-05-09
High-NA EUV光刻機(jī)入場，究竟有多強(qiáng)？

EDA/PCB High-NA EUV |2024-04-03
ASML 新款 NXE:3800E EUV 光刻機(jī)引入部分 High-NA 機(jī)型技術(shù)

EDA/PCB ASM NXE:3800E EUV 光刻機(jī) High-NA |2024-03-27
英特爾是否正在壟斷ASML HIGH NA光刻機(jī)？

EDA/PCB 英特爾 ASML HIGH NA光刻機(jī) |2024-01-11
英特爾拿下首套High-NA EUV，臺(tái)積電如何應(yīng)對？

EDA/PCB 英特爾 High-NA EUV 臺(tái)積電 |2024-01-08
SK海力士引領(lǐng)High-k/Metal Gate工藝變革

網(wǎng)絡(luò)與存儲(chǔ) SK海力士 High-k Metal Gate |2022-11-08
High-end A4監(jiān)聽音箱的制作

消費(fèi)電子制作音箱監(jiān)聽 A4 High-end |2012-10-27
High-end A4監(jiān)聽音箱的制作方法

消費(fèi)電子制作方法音箱監(jiān)聽 A4 High-end |2012-10-04
安森美ADS軟件的 High-Q IPD工藝設(shè)計(jì)套件

安森美 ADS High-QIPD 高電阻率硅銅 |2012-06-25
如何制作High-end A4監(jiān)聽音箱

消費(fèi)電子監(jiān)聽音箱 A4 High-end 制作如何 |2011-12-24
Derive simple high-current source from lab sup

模擬技術(shù) high-current Derive simple source |2010-08-17
制作High-end A4監(jiān)聽音箱的方法

消費(fèi)電子音箱方法監(jiān)聽 A4 High-end 制作 |2010-05-28
半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)研發(fā)經(jīng)費(fèi)拮據(jù)　聯(lián)盟關(guān)系將成救星

EDA/PCB 半導(dǎo)體設(shè)備通孔硅 high-k金屬閘極 |2009-09-10
臺(tái)灣晶圓廠選擇 ASM 提供 High-k ALD工具

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