- 一位消息人士告訴《日經新聞》(Nikkei),決定生產“應該從稍小的方形開始,而不是在早期試驗中從更雄心勃勃的大方形開始。用化學品均勻地涂覆整個基材尤其具有挑戰性。首次生產將于 2017 年在桃園市試行。據報道,日月光科技最初表示正在建造一條使用 600 x 600 毫米基板的 PLP 生產線,但在聽說臺積電的決定后,決定在高雄建造另一條使用 310x310 毫米基板的試點生產線。PLP 技術由 Fraunhofer 于 2016 年推出,當時它與 17 個合作伙伴成立了面板級封裝聯盟 (PLC)。
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TSMC 襯底 PLP
- 據日經中文網報道,日本中央硝子(Central Glass)開發出了用于功率半導體材料“碳化硅(SiC)”襯底的新制造技術。據介紹,中央硝子開發出了利用含有硅和碳的溶液(液相法)來制造SiC襯底的技術。與使用高溫下升華的SiC使單晶生長(升華法)的傳統技術相比,液相法在增大襯底尺寸以及提高品質方面更具優勢。該技術可使襯底的制造成本降低10%以上,良率也會大幅度提升。由于利用液相法制備SiC襯底較為復雜,此前該技術一直未應用在實際生產中。中央硝子運用基于計算機的計算化學,通過推算溶液的動態等,成功量產出了6
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碳化硅 襯底
- 碳化硅(SiC)具有高擊穿場強、高熱導率、高飽和電子漂移速率等特點,可很好地滿足新能源汽車與充電樁、光伏新能源、智能電網、軌道交通等應用需求,對我國“新基建”產業發展具有重要意義,是未來五年“中國芯”最好的突破口之一,當下我國應該集中優勢資源重點發展。
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- 中國汽車工業協會最新數據顯示,2022年1月至11月,新能源汽車產銷分別完成625.3萬輛和606.7萬輛,同比均增長1倍,市場占有率達到25%。由此可見新能源汽車的發展已經進入了快車道。在這里我們注意到,由于里程焦慮和快速充電的要求,800V 電池母線系統獲得了不少的OEM或者Tier1的青睞。談到800V母線系統,讓我們聚焦到其中的核心功率器件碳化硅功率模塊,由于碳化硅得天獨厚的優勢,使得它非常適合用來制造高耐壓、高結溫、高速的MOSFET,這三高恰好契合了800V母線系統對于核心的功率器件的要求。安
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- 電子產品世界,為電子工程師提供全面的電子產品信息和行業解決方案,是電子工程師的技術中心和交流中心,是電子產品的市場中心,EEPW 20年的品牌歷史,是電子工程師的網絡家園
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射頻 抗擊穿 LDMOS 埋層 漂移區 襯底
- 隨著亞微米、深亞微米技術和系統芯片(SOC)技術的日益成熟,功耗已經成為模擬電路設計中首要考慮的問題,低電壓低功耗集成電路設計漸漸成為主流。因為MOS晶體管的襯底或者與源極相連,或者連接到VDD或VSS,所以經常
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襯底 驅動技術 模擬電路設計
- 混合動力電動汽車(HEV)能把污染物排放量降低1/3至1/2,最新車型甚至可能把排放量降得更多。但是,HEV需要大功率的成本效益型電源開關,到目前為止,大功率開關產品因為成本高,可靠性達不到汽車應用的期望,而無法適
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IGBT IMS 塑料封裝 襯底
- 1:藍寶石詳細介紹藍寶石的組成為氧化鋁(Al2O3),是由三個氧原子和兩個鋁原子以共價鍵型...
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LED 藍寶石 基板 襯底
- 對于制作LED芯片來說,襯底材料的選用是首要考慮的問題。應該采用哪種合適的襯底,需要根據設備和led器件的要求...
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LED 襯底
- 介紹了一種基于襯底驅動技術的低電壓低功耗運算放大器。輸入級采用襯底驅動MOSFET,有效避開閾值電壓限制;輸出采用改進前饋式AB類輸出級,確保了輸出級晶體管的電流能夠得到精確控制,使輸出擺幅達到軌至軌。整個電路采用PTM標準0.18 μm CMOS工藝參數進行設計,用Hspice進行仿真。模擬結果顯示,測得直流開環增益為62.1 dB,單位增益帶寬為2.13 MHz,相位裕度52°,電路在0.8 V低電壓下正常運行,電路平均功耗只有65.9 μW。
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低壓 低功耗 襯底 驅動
- 目前國際上商品化的GaN基LED均是在藍寶石襯底或SiC襯底上制造的。但藍寶石由于硬度高、導電性和導熱性差等原因,對后期器件加工和應用帶來很多不便,SiC同樣存在硬度高且成本昂貴的不足之處,而價格相對便宜的Si襯底由于有著優良的導熱導電性能和成熟的器件加工工藝等優勢,因此Si襯底GaN基LED制造技術受到業界的普遍關注。
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GaN LED 襯底 功率型
- 2009中國LED顯示產業高峰論壇5月24日在“深圳光電顯示周”期間舉行。與此同時,為表彰和鼓勵優秀企業和技術創新,首屆中國LED行業年度評選頒獎典禮同時舉行。
LED(發光二極管)產業是朝陽產業、綠色產業。LED顯示成為5月23日-26日“深圳光電顯示周”期間的最大亮點。在國際金融危機的背景下,眾多展會和論壇“冷場”或“縮水”,而24日的“2009中國LED顯示產業高峰論壇”
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CREE LED 襯底
- 使用國產6H―SiC襯底的GaN HEMT外延材料研制出高工作電壓、高輸出功率的A1GaN/GaN HEMT。利用ICCAP軟件建立器件大信號模型,利用ADS軟件仿真優化了雙級GaNMMIC,研制出具有通孔結構的GaN MMIC芯片,連續波測試顯示,頻率為9.1~10.1 GHz時連續波輸出功率大于10W,帶內增益大于12 dB,增益平坦度為±0.2 dB。該功率單片為第一個采用國產SiC襯底的GaN MMIC。
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