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        EEPW首頁 >> 主題列表 >> 碳化硅 mosfet

        碳化硅 mosfet 文章 最新資訊

        意法半導體碳化硅助力理想汽車加速進軍高壓純電動車市場

        • 2023年12月22日,中國北京-服務多重電子應用領域、全球排名前列的半導體公司意法半導體(STMicroelectronics,簡稱ST;紐約證券交易所代碼:STM),與設計、研發、制造和銷售豪華智能電動車的中國新能源汽車龍頭廠商理想汽車(紐約證券交易所代碼: LI) 簽署了一項碳化硅(SiC)長期供貨協議。按照協議, 意法半導體將為理想汽車提供碳化硅MOSFET,支持理想汽車進軍高壓純電動車市場的戰略部署。隨著汽車行業電動化和綠色低碳轉型的持續深入,高壓純電動車因其能效更高、續航里程更遠,已成為汽車制
        • 關鍵字: 意法半導體  碳化硅  理想汽車  高壓純電動車  

        NMOS和PMOS詳解

        • 一、簡介MOS管,是MOSFET的縮寫。MOSFET金屬-氧化物半導體場效應晶體管,簡稱金氧半場效晶體管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor, MOSFET)。其中,G是柵極,S是源極,D是漏極。二、nmos和pmos的原理與區別NMOSNMOS英文全稱為N-Metal-Oxide-Semiconductor。 意思為N型金屬-氧化物-半導體,而擁有這種結構的晶體管我們稱之為NMOS晶體管。MOS晶體管有P型MOS管和N型MOS管之分。由MO
        • 關鍵字: MOSFET  NMOS  PMOS  

        通用智能SiC晶錠8寸剝離產線正式交付客戶

        • 據通用智能官微消息,日前,通用智能裝備有限公司SiC晶錠8寸剝離產線正式交付客戶。目前,SiC晶錠主要通過砂漿線/金剛石線切割,效率低和損耗高。據悉,通用智能采用激光隱切技術完成SiC晶錠分割工藝過程,并成功實現8寸碳化硅晶錠剝離設備的量產。
        • 關鍵字: 碳化硅  晶錠    

        8英寸碳化硅襯底材料裝備開發及產業化工藝研究項目順利通過中期驗收

        • 據科友半導體官微消息,12月10日,“8英寸碳化硅襯底材料裝備開發及產業化工藝研究”項目階段驗收評審會召開。會上,以黑龍江省科學院原院長郭春景研究員為組長的評審專家組認為,科友半導體圓滿完成了計劃任務書2023年度階段任務,成功獲得了8英寸碳化硅單晶生長的新技術和新工藝,建立了碳化硅襯底生產的工藝流程,制定了相關工藝流程的作業指導書,一致同意項目通過階段驗收評審。據了解,8英寸碳化硅襯底材料裝備開發及產業化工藝研究項目是2021年哈爾濱市科技專項計劃項目,由哈爾濱科友半導體承擔,旨在推動8英寸碳化硅裝備國
        • 關鍵字: 碳化硅  科友半導體  第三代半導體材料  

        碳化硅MOS管在三相逆變器上的應用

        • 三相逆變器的定義是將直流電能轉換為交流電能的轉換器,其基本原理就是SPWM,硬件架構為四個功率模塊組成單相、三相橋式電路,橋式輸出至負載間串接低通濾波元件,控制回路具有兩個信號產生源,一個是固定幅值的三角波(調制波)發生器,一個為正弦波發生器,利用三角波對正弦波進行調制,就會得到占空比按照正弦規律變化的方波脈沖列,調制比不同,一個正弦周期脈沖列數等于調制波頻率除以基博頻率)。再用方波脈沖列去控制上述橋式電路,在輸出上就得到了符合要求的正弦電壓電流了。一、前言 三相逆變是指轉換出的交流電壓為三相,
        • 關鍵字: RS瑞森半導體  碳化硅  MOS管  

        ROHM開發出采用SOT-223-3小型封裝的600V耐壓Super Junction MOSFET

        • ~產品陣容新增具有低噪聲、高速開關和超短反向恢復時間特點的5款新產品~全球知名半導體制造商ROHM(總部位于日本京都市)開發出采用SOT-223-3小型封裝(6.50mm×7.00mm×1.66mm)的600V耐壓Super Junction MOSFET*1“R6004END4?/ R6003KND4?/ R6006KND4?/ R6002JND4?/ R6003JND4”,新產品非常適用于照明用小型電源、電泵和電機等應用。?近年來,隨著照明用的小型電源
        • 關鍵字: ROHM  Super Junction MOSFET  

        英飛凌推出首款采用OptiMOS? 7技術15 V PQFN封裝的溝槽功率MOSFET

        • 數據中心和計算應用對電源的需求日益增長,需要提高電源的效率并設計緊湊的電源。英飛凌科技股份公司順應系統層面的發展趨勢,推出業界首款15 V溝槽功率MOSFET ——全新OptiMOS? 7系列。OptiMOS? 7 15 V系列于服務器、計算、數據中心和人工智能應用上提升DC-DC轉換率。該半導體產品組合包含最新的PQFN 3.3 x 3.3 mm2源極底置(Source-Down)封裝,標準門級和門級居中引腳排列形式均提供底部冷卻型和雙面冷卻型以供選擇;此外,該產品組合還包含穩定可靠的超小型的PQFN
        • 關鍵字: 英飛凌  溝槽功率  MOSFET  

        意法半導體將斥資50億歐元在意大利新建SiC晶圓廠

        • 12月1日消息,近日,據外媒報道,意法半導體(STMicroelectronics)將于意大利西西里島Catane投資50億歐元,新建一座碳化硅、超級半導體晶圓廠。該晶圓廠將專門生產碳化硅芯片,為電動車關鍵技術并具強大成長潛力。報道稱,此舉是意法半導體繼與格芯在法國東南部Crolles的75億歐元晶圓廠計劃后為平衡集團在意法兩國布屬所為。值得一提的是,今年6月,意法半導體宣布將與三安光電在中國重慶成立200mm碳化硅器件制造合資企業,預計2025年第四季度投產,預計到2030年碳化硅收入將超過50億美元。
        • 關鍵字: 意法半導體  ST  格芯  晶圓廠  碳化硅  電動車  

        Nexperia首款SiC MOSFET提高了工業電源開關應用的安全性、穩健性和可靠性標準

        • 奈梅亨,2023年11月30日:基礎半導體器件領域的高產能生產專家Nexperia今日宣布推出其首款碳化硅(SiC) MOSFET,并發布兩款采用3引腳TO-247封裝的1200 V分立器件,RDS(on)分別為40 mΩ 和80 mΩ。NSF040120L3A0和NSF080120L3A0是Nexperia SiC MOSFET產品組合中首批發布的產品,隨后Nexperia將持續擴大產品陣容,推出多款具有不同RDS(on)的器件,并提供通孔封裝和表面貼裝封裝供選擇。這次推出的兩款器件可用性高,可滿足電動
        • 關鍵字: Nexperia  SiC  MOSFET  工業電源開關  

        英飛凌已開始生產8英寸SiC晶圓樣片

        • 11月28日消息,據外媒報道,日前,英飛凌綠色工業動力部門(GIP)總裁Peter Wawer在受訪時透露,英飛凌正在其位于Villach的工廠生產8英寸SiC晶圓的電子樣品。他表示,英飛凌目前使用6英寸晶圓,但已經在工廠制備了第一批8英寸晶圓機械樣品,很快將它們轉化為電子樣品,并將在2030年之前大規模量產應用。在產能方面,英飛凌正在通過大幅擴建其Kulim工廠(在2022年2月宣布的原始投資之上)獲得更多產能,信息稱,英飛凌將建造世界上最大的200毫米晶圓廠SiC(碳化硅)功率工廠。值得一提的是該計劃
        • 關鍵字: 英飛凌  碳化硅  晶圓  

        Omdia:人工智能將在電動汽車革命中超越下一代半導體

        • 倫敦2023年11月15日 /美通社/ -- 隨著Omdia預測電動汽車 (EV) 革命將引發新型半導體激增,電力半導體行業的幾十年舊規范正面臨挑戰。人工智能熱潮是否會產生類似的影響?功率分立器件、模塊和IC預測Omdia半導體元件高級分析師卡勒姆·米德爾頓表示:“長期以來依賴硅技術的行業正受到新材料制造的設備的挑戰和推動。氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)功率器件的開發始于上個世紀,但它們的技術成熟度與可持續發展運動相匹配,新材料制造的設備在能源匱乏的世界中有著顯著的效率提升。”2018 年,特斯拉首次
        • 關鍵字: 新能源  氮化鎵  碳化硅  

        Nexperia與三菱電機就SiC MOSFET分立產品達成戰略合作伙伴關系

        • Nexperia近日宣布與三菱電機公司建立戰略合作伙伴關系,共同開發碳化硅(SiC) MOSFET分立產品。Nexperia和三菱電機都是各自行業領域的領軍企業,雙方聯手開發,將促進SiC寬禁帶半導體的能效和性能提升至新高度,同時滿足對高效分立式功率半導體快速增長的需求。三菱電機的功率半導體產品有助于客戶在汽車、家用電器、工業設備和牽引電機等眾多領域實現大幅節能。該公司提供的高性能SiC模塊產品性能可靠,在業界享有盛譽。日本備受贊譽的高速新干線列車采用了這些模塊,并以出色的效率、安全性和可靠性聞名遐邇。N
        • 關鍵字: Nexperia  三菱電機  SiC MOSFET  

        氮化鎵取代碳化硅,從PI開始?

        • 在功率器件選擇過程中,以氮化鎵、碳化硅為代表的寬禁帶半導體越來越受到了人們的重視,在效率、尺寸以及耐壓等方面都相較于硅有了顯著提升,但是如何定量分析這三類產品的不同?Power Intergrations(PI)資深培訓經理Jason Yan日前結合公司新推出的1250V氮化鎵(GaN)產品,詳細解釋了三類產品的優劣,以及PI對于三種產品未來的判斷,同時還介紹了PI氮化鎵產品的特點及優勢。在功率器件選擇過程中,以氮化鎵、碳化硅為代表的寬禁帶半導體越來越受到了人們的重視,在效率、尺寸以及耐壓等方面都相較于硅
        • 關鍵字: PI  氮化鎵  碳化硅  

        了解 MOSFET 通態漏源電阻

        • 分立 MOSFET 數據表中重要的規格之一是漏源通態電阻,縮寫為 R DS (on)。這個 R DS (on)想法看起來非常簡單:當 FET 處于截止狀態時,源極和漏極之間的電阻非常高,以至于我們假設電流為零。當 FET 的柵源電壓 (V GS ) 超過閾值電壓 (V TH ) 時,它處于“導通狀態”,漏極和源極通過電阻等于 R DS(on) 的溝道連接。然而,如果您熟悉 MOSFET 的實際電氣行為,您應該很容易認識到該模型與事實不符。首先,FET 并不真正具有“導通狀態”。當未處于截止狀態時(我們在此
        • 關鍵字: MOSFET  通態漏源電阻  
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        碳化硅 mosfet介紹

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