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        突破

        作者: 時間:2025-06-14 來源:EEPW 收藏


        本文引用地址:http://www.104case.com/article/202506/471357.htm

        在全球科技競爭加劇的背景下,美國對國內半導體行業(yè)制裁加速,涉及超過100家實體企業(yè),覆蓋了半導體產業(yè)鏈多個制造環(huán)節(jié),半導體產業(yè)鏈國產化迫在眉睫。

        從光刻機到刻蝕機,從清洗設備到檢測設備,半導體制造設備的每一個核心部件都需要逐步實現(xiàn),而開關電源作為設備中不可或缺的電力供應單元,自然也成為了國產化的重要組成部分。

        作為的"心臟",開關電源的國產化替代需求日益凸顯。越來越多的設備廠商開始轉向高性能、高可靠性的國產電源方案,這不僅是應對供應鏈風險的必要舉措,更是提升產業(yè)自主性的關鍵一步。

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        一、 半導體行業(yè)制造設備中的應用特點

        (1)SEMI F47認證:保障穩(wěn)定運行

        SEMI F47是的重要測試認證,如PSL電壓瞬降和暫升測試等,主要就是考驗其設備電源的穩(wěn)定性,符合F47認證有利于提高設備的可靠性和穩(wěn)定性。

        (2)高精度電壓控制、低紋波噪聲

        半導體制造設備內部控制板等負載,需開關電源提供極其精確的電壓控制,同時低紋波噪聲的控制,可保證負載不受干擾而影響精度。

        (3)快速動態(tài)響應、瞬態(tài)過功率能力

        設備負載變化頻繁且迅速,快速響應能有效防止電壓波動,電機等負載也需要高瞬態(tài)過功率能力。

        (4)高可靠性、長壽命

        設備工業(yè)級別,且不間斷工作,故對內部的電源需具備高可靠性和長壽命,如MTBF(平均無故障時間)超過10萬小時、工業(yè)級別工作溫度、優(yōu)良的EMC性能、寬輸入的電壓范圍等,甚至部分應用需要電源符合防爆認證的設計。

        二、 半導體制造設備解決方案典型案例

        等離子刻蝕機

        等離子刻蝕機是等離子刻蝕機是半導體制造中的關鍵設備,可用于制造微處理器、光纖通信器件等高精度芯片和電路。主要由真空室、等離子源、刻蝕腔等組成,以下是等離子刻蝕機的電源解決方案。

        此設備對電源的要求:

        1、國產化品牌、快速交付能力強;

        2、高性價比、高可靠性,高電壓精度、低紋波噪聲;

        3、符合 ATEX、IECEx 增安型防爆;

        4、具備一定的防腐性能。

        針對該設備的應用需求,提供相應的電源解決方案,此方案采用了供電一級側電源為導軌電源LIMF240-23B24、LIMF480-23B24,同時采用了2個作為冗余設計,滿足設備高可靠需求,板卡側電源則采用DCDC模塊電源VRB和URB系列,做進一步隔離和轉換電壓的作用。

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        三、結語

        半導體制造設備的國產化浪潮為開關電源行業(yè)帶來了巨大的機遇與挑戰(zhàn)。作為半導體設備中的關鍵部件,開關電源的性能直接影響到設備的穩(wěn)定性和可靠性。選擇一款高性能、高可靠性的國產開關電源,不僅是應對供應鏈風險的必要舉措,更是提升設備競爭力的關鍵所在。作為一站式電源解決方案商,致力于為半導體領域用戶提供更多無憂的國產電源。



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