新款世偉洛克? ALD7 超高純閥門使半導體制造商能夠提高芯片產量

流體系統產品、組件及相關服務的領先供應商世偉洛克日前宣布推出世偉洛克? ALD7 超高純(UHP)隔膜閥 — 該產品能夠為半導體制造商提供提高芯片產量必需的一致性和長使用壽命。與世偉洛克目前頂級的 ALD6 閥門相比，ALD7 提供了更好的流量一致性、流通能力和執行機構速度。它還提供了必要的高溫下性能，使芯片制造商能夠克服當前制造工藝的限制，滿足需求。

ALD7 閥門可以被集成到新設備或原有設備中，在與現有閥門相同的 1.5-inch (38.1mm)安裝下提供更高的流通能力（高達 0.7 Cv），幫助制造商滿足全球對先進技術芯片的強勁需求。ALD7 閥門通過比其前身 ALD6 更快、更一致的執行速度，在上億次 ALD（原子層沉積）生產循環中提供精確進料。該執行機構的打開和關閉響應時間可低于 5ms。執行機構可浸入 150°C (302°F)環境，而閥體的額定溫度為 200°C (392°F)，使閥門能夠更好地支持需要高溫輸送的低蒸汽壓前驅體。這為制造商提供了增加產量和良率所需的控制。

ALD7 閥門擁有緊湊的設計，集成了熱隔離器，使系統設計者能夠盡可能地利用芯片制造設備的反應腔附近的有限空間。此閥門對 ALD 工藝中使用的腐蝕性氣體也有很強的抗腐蝕能力，其閥體由世偉洛克專有的超高純 316L VIM-VAR 不銹鋼構成。因此，半導體設備制造商可以依靠 ALD7 閥在易變的工藝條件下提供一致的性能，為客戶在不增加運營成本的情況下提高產能。

“自從近 20 年前開發出行業內第一款符合應用的ALD 閥以來，我們一直與半導體客戶合作，以更好地了解在芯片制造商繼續縮小工藝節點和增加芯片產量的情況下，我們的超高純閥所需要的性能水平，”世偉洛克產品經理 Ben Olechnowicz 解釋說。“這使得我們不斷追求創新思維，開發閥門，使其執行更快，應用于更極端的條件，具有更高的流量系數，以滿足原子層工藝的持續要求。我們將 ALD7 設計成一款可靠的全天候生產閥門，可以滿足所有這些要求，為我們的客戶提供必要的性能一致性，以便在這個似乎總是在變化并對制造商提出更多要求的行業中保持領先地位。”

ALD7 目前可提供高流量 C型密封的模塊化表面安裝配置，或配備卡套管對焊和世偉洛克 VCR? 面密封接頭端接的直通配置。高溫電子位置傳感器、光學位置傳感器或電磁先導閥配置也可作為附加元件提供。