吳漢明院士：本土可控的55nm芯片制造比完全進口的7nm更有意義

在中國工程院主辦的“中國工程院信息與電子工程前沿論壇”上，中國工程院院士吳漢明對光刻機、產業鏈國產化等關鍵問題進行了分析。

在整個產業鏈環節，重點的三大“卡脖子”制造環節包括了工藝、裝備/材料、設計IP核/EDA。他表示，在半導體材料方面，我國光刻膠、掩膜版、大硅片產品幾乎都要依賴進口；在裝備領域，世界舞臺上看不到中國裝備的身影。

吳漢明強調，自主可控固然重要，但也要認識到集成電路產業是全球性的產業。以EUV光刻機為例，涉及到十多萬零部件，需要5000多供應商支撐，其中32%在荷蘭和英國，27%供應商在美國，14%在德國，27%在日本，這就體現了全球化技術協作的結果。在其中，“我們有哪些環節拿得住的？是我國研發和產業發展的核心點。”

他援引數據稱，10納米節點以下先進產能占17%，83%市場在10納米以上節點，創新空間巨大。在先進制程研發不占優勢的情況下，我國可以運用成熟的工藝，把芯片的性能提升。也正是因此他提出一個觀點：本土可控的55nm芯片制造，比完全進口的7nm更有意義。