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        2013年全球半導(dǎo)體制造設(shè)備支出將下滑8.5%

        作者: 時(shí)間:2013-09-26 來(lái)源:hc360 收藏

          國(guó)際研究暨顧問(wèn)機(jī)構(gòu)Gartner表示,2013年全球設(shè)備支出總額預(yù)計(jì)為346億美元,較2012年的378億美元衰退8.5%。Gartner表示,由于行動(dòng)電話市場(chǎng)趨軟導(dǎo)致28奈米(nm)投資縮減,2013年資本支出將減少6.8%。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/170346.htm

          Gartner研究副總裁DeanFreeman表示:「半導(dǎo)體市場(chǎng)疲弱的情況延續(xù)至2013年第一季,使得新設(shè)備采購(gòu)面臨下滑的壓力。然而,半導(dǎo)體設(shè)備季營(yíng)收已開始好轉(zhuǎn),此外,訂單出貨比(book-to-billratio)轉(zhuǎn)正亦顯示設(shè)備支出將于今年后期回溫。2013年后,我們預(yù)期半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)將一掃目前的經(jīng)濟(jì)陰霾,所有領(lǐng)域的支出在后續(xù)的預(yù)測(cè)期間大致將呈現(xiàn)增加之勢(shì)。」

          邏輯支出向來(lái)是2013年資本支出的主要?jiǎng)恿?然而,行動(dòng)電話市場(chǎng)趨軟已抑制第三季對(duì)28奈米的投資,此一情況預(yù)料將延續(xù)至2013年第四季。記憶體支出已略見起色,其2013年下半年總支出應(yīng)可超越上半年。

          Gartner表示,資本支出高度集中于少數(shù)幾家企業(yè)。英特爾、臺(tái)積電與三星等前三大廠即占了2013年支出的一半以上。前五大商合計(jì)已超越2013年總支出的65%,前十大企業(yè)更已達(dá)到總支出的76%。2013年支出后勢(shì)看漲,隨著記憶體市場(chǎng)好轉(zhuǎn)帶動(dòng)產(chǎn)能提升,英特爾也將于今年后期投入14奈米初產(chǎn)。

          Gartner預(yù)測(cè),2014年半導(dǎo)體資本支出將增加14.1%,2015年將進(jìn)一步成長(zhǎng)13.8%。下一次的周期衰退出現(xiàn)在2016年,將略減2.8%,接著2017年將重回正成長(zhǎng)(參見表一)。

            表一:2012至2017年全球半導(dǎo)體制造設(shè)備支出預(yù)測(cè)(單位:百萬(wàn)美元)      (來(lái)源:Gartner,2013/09)

          表一:2012至2017年全球設(shè)備支出預(yù)測(cè)(單位:百萬(wàn)美元) (來(lái)源:Gartner,2013/09)

          Feeman表示:「晶圓設(shè)備(WFE)市場(chǎng)于2013年將呈現(xiàn)逐季成長(zhǎng)之勢(shì),因?yàn)橹饕髲S將擺脫高庫(kù)存時(shí)期,走出整體半導(dǎo)體市場(chǎng)的低迷。今年初的訂單出貨比為數(shù)月以來(lái)首度超越1比1,代表新設(shè)備需求趨于增強(qiáng),先進(jìn)設(shè)備的需求逐漸回升。」

          Gartner預(yù)測(cè),2013年上半年的產(chǎn)能利用率將在70%高段至80%低段之間徘徊,并且于2014年初成長(zhǎng)至80%中段。先進(jìn)產(chǎn)能利用率將于2013年底進(jìn)入90%低段范圍,提供一個(gè)正向的資本投資環(huán)境。

          資本支出預(yù)測(cè)系統(tǒng)計(jì)半導(dǎo)體制造商所有形式的總資本支出,包含晶圓廠及后端封裝與測(cè)測(cè)服務(wù)商。此數(shù)據(jù)系根據(jù)產(chǎn)業(yè)為滿足預(yù)測(cè)之半導(dǎo)體生產(chǎn)需求而帶來(lái)之新增設(shè)施及升級(jí)需求。資本支出代表產(chǎn)業(yè)花費(fèi)在設(shè)備與新設(shè)施上的總額。

          晶圓設(shè)備預(yù)測(cè)系根據(jù)未來(lái)生產(chǎn)半導(dǎo)體裝置所需晶圓之設(shè)備的全球銷售營(yíng)收。晶圓設(shè)備需求的變因包括營(yíng)運(yùn)中晶圓廠數(shù)量、產(chǎn)能利用率、晶圓廠之規(guī)模及其技術(shù)條件。



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