美光發布新款內存:30nm工藝 用于超輕薄設備
—— 30nm工藝制造的DDR3L-RS DRAM已經開始批量供應
三星昨日宣布量產面向下一代智能手機和平板機等便攜設備的3xnm 2GB LPDDR3內存芯片,美光今天也宣布了另外一種DDR3內存的登場:30nm工藝制造的DDR3L-RS DRAM已經開始批量供應,主要針對超極本、平板機等超輕薄計算設備。
本文引用地址:http://www.104case.com/article/136988.htmDDR3L-RS此前被稱作DDR3Lm,是對DDR3L規格的進一步優化,通過降低自我刷新耗電量(IDD6)來降低整體功耗,電壓為標準的1.35V,同時保持與標準DDR3相同的性能、質量和可靠性,運行頻率667/800MHz。
IHS iSuppli認為這是一種非常出色的內存規格,預計會有不少超輕薄平臺采納它。
美光的首批DDR3L-RS內存芯片采用30nm工藝制造,FBGA封裝,單顆容量2Gb(128Mb×16/256Mb×8)、4Gb(256Mb×16/512Mb×8/1Gb×4),已經率先通過了Intel 7/C216系列芯片組、Ivy Bridge Core i7系列處理器新平臺的各方面測試。
美光還在試產更大容量的8Gb DDR3L-RS,分為256Mb×32、512Mb×16兩種規格,運行頻率800MHz,預計今年12月份正式投產。
明年年初,我們則會看到基于下一代DDR4內存規格的新型DDR4-RS。
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