海力士半導體工廠蒸鍍設備氣體外泄

　　據韓國電子新聞報導，韓國半導體大廠海力士(Hynix)位于京畿道利川的工廠發生氣體外泄事故。19日晚間約10點50分，在維修DRAM半導體產線蒸鍍設備過程中，海力士合作廠2位員工因操作不當，使設備內殘留的液化氣體外泄。

　　外泄的液化氣體含有阿摩尼亞成分，廠內產生惡臭，正在進行作業中的海力士員工及合作廠員工約120多人緊急送往鄰近醫院，接受治療后已平安返家，未傳出人員傷亡。本次事故對工廠生產未造成影響。

　　韓國媒體23日晚間訪問海力士社長權五鉉，他表示氣體外泄雖造成工廠生產暫停等情況，但內部已馬上應變處理，目前沒有任何影響，工廠仍正常生產中。此外，他也表示，外泄的氣體雖含有阿摩尼亞成分，但對人體沒有太大傷害。發生事件當時，距離事故現場最近的兩位員工接受醫院檢查后也已無事返家，沒有人員傷亡。