IBM取得芯片生產工藝突破摩爾定律得延續(xù)

　據國外媒體報道，IBM宣布，該公司已經開發(fā)出193納米DUV(deep-ultraviolet optical lithography)技術，可以用于生產只有29.9納米見方的電路，相當于當前主流芯片的三分之一。目前，英特爾最新的Core Solo和Core Duo處理器采用了65納米生產工藝，而AMD處理器仍然采用90納米制程。

　　從某種意義上講，IBM的新技術為“摩爾定律”繼續(xù)生效掃清了障礙。英特爾聯合創(chuàng)始人高頓-摩爾(Gordon Moore)1965年提出，單位面積芯片上的晶體管數量大約每兩年增加一倍，這就是著名的摩爾定律。多年以來，芯片產業(yè)的發(fā)展一直遵循著這一規(guī)律。大多數業(yè)內人士認為，至少在2015年之前，摩爾定律將繼續(xù)生效。

　　目前密度最大的計算機內存芯片可以存儲40億位信息，隨著摩爾定律的延伸，2013年計算機內存芯片將可以存儲640億位信息。按照當前的標準，這類芯片將可以存儲大約2000首歌曲。隨著電路體積越來越小，當前生產工藝已經接近物理極限。因此，近年來業(yè)界一直在尋找新方法，希望突破生產工藝瓶頸，生產出速度更快、性能更高的芯片。

　　來自IBM公司的羅伯特-阿倫(Robert D. Allen)博士表示，IBM的新技術為整個芯片行業(yè)贏得了七年的“喘息”時間。七年之后，要使摩爾定律繼續(xù)生效，必須有更加先進的技術出現。從短期來看，IBM的新技術可以為整個芯片行業(yè)節(jié)省數十億美元的研發(fā)支出。當然，一旦這項技術成為“過去式”，芯片行業(yè)必須重新上路，尋找新的替代方法。