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        美國(guó)再次放寬對(duì)華高技術(shù)產(chǎn)品出口 65nm以下刻蝕設(shè)備不再受限

        作者: 時(shí)間:2010-10-09 來(lái)源:SEMI 收藏

          在SEMI及會(huì)員公司的共同努力下,經(jīng)過(guò)9個(gè)月的等待,美國(guó)聯(lián)邦政府正式實(shí)施放寬的出口條件,原來(lái)180nm的技術(shù)審核指標(biāo)被正式放寬到了a。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/113313.htm


        關(guān)鍵詞: 刻蝕設(shè)備 65nm

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