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        刻蝕設備 文章 最新資訊

        美國再次放寬對華高技術產品出口 65nm以下刻蝕設備不再受限

        •   在SEMI及會員公司的共同努力下,經過9個月的等待,美國聯邦政府正式實施放寬刻蝕設備的出口條件,原來180nm的技術審核指標被正式放寬到了65nma。
        • 關鍵字: 刻蝕設備  65nm  
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        刻蝕設備介紹

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