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        荷蘭從美國收回兩款ASML光刻機的出口管制權

        發布人:芯智訊 時間:2024-11-05 來源:工程師 發布文章

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        9月6日,荷蘭政府今天發布了關于兩款浸沒式 DUV(深紫外光) 光刻機出口的最新許可要求,該規定將于9月7日正式生效。

        根據更新后的許可要求,并根據美國出口管理條例 734.4.(a).(3),ASML后續需要向荷蘭政府而非美國政府申請出口許可,才能出貨其 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i DUV 浸沒式光刻系統。此前,荷蘭的出口管制許可要求已適用于 TWINSCAN NXT:2000i 及后續 DUV 浸沒式系統。ASML 的 EUV 系統的銷售也需遵守許可要求。

        ASML官方表示,認為這一新規主要是協調頒發出口許可證的方式,即由美國政府發放許可變更為由荷蘭政府發放許可。

        ASML在聲明中指出,由于這是技術性調整,因此預計不會對公司2024年的財務前景,或在2022年11月投資者日傳達的長期情景產生任何影響。

        編輯:芯智訊-浪客劍


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        關鍵詞: 芯片

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