上半年凈利減少48.48%，中微公司股價大跌近10%！

8月22日晚間，中微半導體設備（上海）股份有限公司（簡稱“中微公司”）發布了2024年半年度財報，上半年公司實現營業收入34.48億元，同比增長36.46%；歸屬于上市公司股東的凈利潤5.17億元，同比大跌48.48%；扣除非經常性損益的凈利潤約 4.83 億元，較上年同期減少約6.88%。

受凈利潤下滑影響，23日A股開盤后，中微公司股價便迅速下跌，截至午盤收盤，股價大跌-9.60%，收于125.47元/股，市值779.55億元。

中微公司表示，上半年公司的等離子體刻蝕設備在國內外持續獲得更多客戶的認可，針對先進邏輯和存儲器件制造中關鍵刻蝕工藝的高端產品新增付運量顯著提升，CCP 和 ICP 刻蝕設備的銷售增長和在國內主要客戶芯片生產線上市占率均大幅提升，這推動了公司營收的同比大幅增長。

具體來說，今年上半年中微公司刻蝕設備收入為 26.98 億元，較上年同期增長約 56.68%，刻蝕設備占營業收入的比重由上年同期的 68.16%提升至本期的 78.26%；MOCVD 設備收入為 1.52億元，較上年同期減少約 49.04%，主要因為公司在藍綠光 LED 生產線和 Mini-LED 產業化中保持絕對領先的地位，該終端市場近兩年處于下降趨勢；公司緊跟 MOCVD 市場發展機遇，積極布局用于碳化硅和氮化鉀基功率器件應用的市場，并在 Micro-LED 和其他顯示領域的專用MOCVD 設備開發上取得良好進展，已付運和將付運幾種 MOCVD 新產品進入市場。此外，公司新產品 LPCVD 設備實現首臺銷售，收入 0.28 億元。

從訂單來看，2024 年上半年中微公司新增訂單 47.0 億元，同比增長約 40.3%。其中刻蝕設備新增訂單 39.4 億元，同比增速約 50.7%；LPCVD 上半年新增訂單 1.68 億元，新產品開始啟動放量。

從產能來看，2024 年上半年中微公司共生產專用設備 833 腔，同比增長約 420%，對應產值約 68.65 億元，同比增長約 402%，為本年度出貨及確認收入打下了較好的基礎。

對于上半年公司凈利潤同比大跌48.48%（減少 4.86 億元）的原因，中微公司解釋稱，主要系 2023 年公司出售了持有的部分拓荊科技股份有限公司股票，產生稅后凈收益約4.06 億元，而 2024 年公司并無該項股權處置收益；以及公司上半年主要由于研發總投入增長下扣非后歸母凈利潤較上年同期減少 0.36 億元。

為盡快補短板，實現趕超，上半年中微公司公司顯著加大研發力度。公司目前在研項目涵蓋六類設備，20 多個新設備的開發，2024 年上半年公司研發投入 9.70 億元，較上年同期的 4.60 億元增加約 5.10 億元，同比大幅增長 110.84%。

等離子體刻蝕設備研發方面，公司根據技術發展及客戶需求，大力投入先進芯片制造技術中關鍵刻蝕設備的研發和驗證，目前針對邏輯和存儲芯片制造中最關鍵刻蝕工藝的多款設備已經在客戶產線上展開驗證。公司針對超高深寬比刻蝕自主開發的具有大功率 400kHz 偏壓射頻的 PrimoUD-RIE 已經在生產線驗證出具有刻蝕≥60:1 深寬比結構的量產能力。同時，公司積極布局超低溫刻蝕技術，在超低溫靜電吸盤和新型刻蝕氣體研究上投入大量資源，積極儲備更高深寬比結構（≥90:1）刻蝕的前衛技術。多款 ICP 設備在先進邏輯芯片、先進 DRAM 和 3D NAND 產線驗證推進順利并陸續取得客戶批量訂單。晶圓邊緣 Bevel 刻蝕設備完成開發，即將進入客戶驗證，公司的 TSV 硅通孔刻蝕設備也越來越多地應用在先進封裝和 MEMS 器件生產。

薄膜沉積設備研發方面，公司目前已有多款新型設備產品進入市場，其中部分設備已獲得重復性訂單，其他多個關鍵薄膜沉積設備研發項目正在順利推進。公司鎢系列薄膜沉積產品可覆蓋存儲器件所有鎢應用，并已完成多家邏輯和存儲客戶對 CVD/HAR/ALD W 鎢設備的驗證，取得了客戶訂單。公司近期已規劃多款 CVD 和 ALD 設備，增加薄膜設備的覆蓋率，進一步拓展市場。

公司組建的 EPI 設備研發團隊，通過基礎研究和采納關鍵客戶的技術反饋，已經形成自主知識產權及創新的預處理和外延反應腔的設計方案,目前公司 EPI 設備已順利進入客戶驗證階段，以滿足客戶先進制程中鍺硅外延生長工藝的電性和可靠性需求。

MOCVD 設備研發方面，Micro-LED 應用的專用 MOCVD 設備開發順利，實驗室初步結果實現了優良的波長均勻性能，已付運樣機至國內領先客戶開展生產驗證；用于碳化硅功率器件外延生產的設備正在開發中，已付運樣機至國內領先客戶開展驗證測試；下一代用于氮化鎵功率器件制造的 MOCVD 設備也正在按計劃順利開發中。

編輯：芯智訊-浪客劍