日本將補貼美光EUV晶圓廠100億!

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據《日經新聞》報道，日本經濟產業省將把對美光廣島工廠的補貼從3.2億美元增加到12.9億美元(約100億元）。這一決定確保了美光公司按時建造其晶圓廠。對日本政府來說，這筆撥款是一項更廣泛計劃的一部分，該計劃包括向各種芯片公司投資數十億，以提高日本的半導體實力。

幾乎就在一年前，美光在廣島的晶圓廠獲得了3.2億美元的融資。與此同時，美光在新生產設施上的總投資預計約為5000億日元(36.18億美元)。雖然3.2億美元是一大筆錢，但考慮到美光的資本支出與2022年的水平相比有所減少。因此，據日經新聞報道，美光和日本政府似乎已經達成了增加補貼的協議。

美光的目標是，到2026年，利用極紫外(EUV)光刻技術的1γ工藝(第三代10nm級節點)開始大規模生產復雜的存儲芯片，因此公司需要盡快獲得資金。

日本經濟產業省的愿景并不局限于美光。兩年內2萬億日元(133.85億美元)的預算將明確預留給與半導體投資相關的補貼。臺積電(TSMC)將獲得4760億日元(合31.857億美元)的熊本晶圓廠投資。此外，kixia與位于三重縣的美國西部數據公司(Western Digital)之間的合作還獲得了價值929億日元(合6.21億美元)的補貼。

向半導體公司注入大筆資金，突顯出日本致力于減少對海外芯片供應商的依賴，重建國內半導體行業。日本的目標是通過加強國內能力來規避與國際供應鏈中斷相關的潛在風險，從而確保關鍵技術部件的順利和穩健的國內供應。