南華早報：中國計劃利用粒子加速器制造芯片！

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據新加坡《南華早報》(SCMP)報道，中國計劃采用一種創新的方法，利用粒子加速器制造芯片處理器，有可能成為先進芯片制造的全球領導者。《南華早報》表示，這種方法旨在避開傳統光刻機的限制和美國對EUV技術的制裁，可能會重塑半導體行業的格局。

由清華大學領導的中國研究小組正在利用粒子加速器開發一種獨特的EUV光源，目標是避開傳統光刻機的限制。擬議中的粒子加速器大約有兩個籃球場那么大，周長在100-150米之間，將為芯片制造提供高質量的特定波長的光源。

斯坦福大學的趙武教授介紹了其基礎技術——穩態微束(SSMB)。SSMB捕獲帶電粒子在加速過程中釋放的能量，將其轉化為連續的純EUV光源。與目前流行的ASML EUV方法相比，SSMB具有更高的功率和效率，有可能降低芯片生產成本。

團隊成員潘志龍教授在2022年1月的一次學術研討會上說:“清華大學已經設計出了一個SSMB-EUV光源，設計的EUV功率高于1kW，一些關鍵技術已經準備就緒。”

這一雄心勃勃的項目與專注于芯片制造機器小型化的阿斯麥等公司的戰略形成了鮮明對比。相反，中國的愿景是建立一個巨大的工廠，里面有數十臺光刻機，都圍繞著一個加速器。該設計旨在實現具有競爭力的制造工藝(如2nm及以上)，這些工藝將用于制造高性能芯片，而無需使用傳統的極紫外(EUV)光刻機。

清華大學的項目負責人唐傳祥教授表示：“作為一種全新的光源，該技術的實驗驗證已經實現。但有必要建立一個在EUV波段工作的固體SSMB光源研究設備，然后我們可以利用該設備供給工業界使用，并完善SSMB技術。”

據報道，清華大學的團隊在這一領域取得了重大進展，現在正在為該項目的建設尋找地點。然而，實現基于SSMB的EUV光刻機的旅程仍然漫長而充滿挑戰。唐傳祥教授強調需要不斷創新和跨行業合作來開發一個功能齊全的光刻系統。

“在我們獨立開發EUV光刻機之前還有很長的路要走，但基于SSMB的EUV光源為我們提供了一種替代現有技術的選擇，需要基于SSMB EUV光源的持續技術創新，并與上下游行業合作，才有機會構建可用的光刻系統。”