ASML德國工廠起火，產線損失未知

1月3日，路透社消息，芯片光刻機龍頭ASML周一表示，其在德國柏林的一家工廠發生火災。廠房部分區域受損，自動清洗設備噴灑了約200平方公尺。好在暫時無人傷亡， 但是詳細損失及產能規模的影響還需要評估。

據柏林市消防單位稱，廠房的生產設備目前不可用，火災原因和損失程度仍在調查中。

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起火工廠

前身是ASML的供應商Berliner Glas

隨后，ASML也在官網公布了關于該工廠的火災消息，從官網的信息來看，發生火災的工廠主要生產ASML的光刻機制造零件。

這家德國柏林的ASML工廠前身是Berliner Glas，為ASML的光刻機系統的零件制造和供應工廠。，包括晶圓臺(wafer tables)、光罩盤(reticle chucks)、反射鏡(mirror blocks)等。 

ASML在2020年收購德商Berliner Glas，后者是光學、機械及電子系統解決方案的開發商及OEM(代工生產)制造商，當時并未公開收購金額。 該公司的銷售額為 2.3 億歐元（2.61 億美元）。

ASML表示，目前就損失或火災是否會對今年的產出計劃產生任何影響發表任何聲明還為時過早，還需要幾天時間來評估損失，會盡快向市場提供最新消息。 

“目前就損害或該事件是否會對今年的產量計劃產生任何影響發表任何聲明還為時過早，”ASML 表示，并補充說評估損害需要幾天時間，并將盡快地公布。

不過，ASML 的股價，在傳出發生火災之前持續維持上漲約1% 的態勢。但是，在傳出發生火災事件之后，則是股價下跌約0.3% 幅度，來到每股704.4 歐元的價位。

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無法替代的ASML

目前全球半導體短缺，ASML 作為幾乎所有主要計算機芯片制造商的關鍵設備供應商，替全球芯片制造商生產關鍵設備，擁有獨家極紫外光（EUV）微影設備，與臺積電、三星及英特爾都有密切合作關系，中國臺灣也設有相關部門，在臺員工人數初估達2000人。目前正在滿負荷運轉，任何發貨延遲都會影響試圖擴大產能的客戶。 

早前ASML CEO曾指出，疫情持續加速數字化轉型，為解決芯片缺貨問題，IDM廠、晶圓代工廠、存儲器廠均擴大投資提高產能，且投資項目聚集在先進制程產能，進一步推動邏輯IC及DRAM的EUV設備強勁需求。ASML今年EUV設備產能約達45～50臺且供不應求，明年預期將提高至55臺，且都將用于生產效率提升15％的新一代NXE: 3600D曝光機，新機臺在客戶晶圓廠每小時曝光產量（throughput）已達160片。

根據ASML召開分析師會議中資料，隨著邏輯IC制程明年跨入3納米世代，DRAM制程微縮至14納米以下，單片晶圓EUV曝光光罩層數正在快速提升，ASML預估先進邏輯制程晶圓2021年EUV曝光層數平均已逾10層，至2023年將增加到逾20層，EUV光刻機未來幾年都會供不應求，ASML的EUV光刻機訂單一路滿到2025年。

隨著EUV光刻技術變得越來越重要，ASML的優勢也越發明顯。

不過，光刻機供貨商除阿斯麥之外，還有日本廠商尼康(Nikon)和佳能(CAJ.US)，這兩家在深紫外線(DUV，光源波長比EUV長)的光刻技術上能與ASML競爭，但ASML作為企業龍頭，在DUV光刻領域，也擁有62%的市場份額。

但是在EUV領域，只有ASML一家能生產。

此外，ASML的第一臺高NA EUV光刻機預計將在2023年開放早期訪問，2024年到2025年開放給客戶進行研發并從2025年開始量產。據悉，相較于當前0.33NA的EUV光刻機，0.55NA有了革命性進步，它能允許蝕刻更高分辨率的圖案。分析師Alan Priestley稱，0.55NA光刻機一臺的價格會高達3億美元（約合19億元），是當前0.33NA的兩倍。

有分析師表示，大火可能會限制ASML產量(至少在短期內)，從而阻礙計劃中的晶圓代工生產。