可加工5納米芯片，尼康宣布開發新一代ArF浸入式光刻機，面向尖端半導體制造

NSR-S636E 具有增強型在線對準站(iAS)，它是集成在涂布機/顯影器單元和光刻掃描儀之間的芯片預測量模塊。S636E和 iAS 利用復雜的多點對準測量和高級校正功能，使設備制造商能夠實現3D 設備結構所需的嚴格疊加精度，同時最大限度地提高浸入式光刻機的生產力。NSR-S636E非常適合尖端半導體制造，包括邏輯和存儲設備、CMOS圖像傳感器應用等。關于NSR-S636E的更多參數還沒有公布，但是從其上一代S635E宣稱的已經可以生產5nm芯片來看，S636E應該至少是可以更加高效的生產5納米芯片了，這個對于我國買不到ASML EUV光刻機來說，不失為一個很好的選擇。