【科普】什么是EUV光刻？
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在說EUV之前，讓我們先了解一下什么是光刻技術。
光刻技術從基本上來說是一個投影系統，將光線投射并穿透印有電路藍圖的光罩，利用光學原理將圖樣打在已涂布感光****劑的硅晶片上，進行曝光。當未曝光的部分被蝕刻移除后，圖樣就會顯露出來。
在光刻行業有一個規律，就是芯片廠在芯片上塞進的結構數量越多，芯片就越強大。進而循著這條規律，所有芯片廠的目標就是盡力縮小結構尺寸。
這時候就要說到我們今天的話題——EUV了。
EUV，中文是極紫外光刻。它是光刻技術的一種。
EUV是現在最領先的光刻技術。它以波長為10~14納米的極紫外光作為光源，可使曝光波長一下子降到13.5納米。這一技術能夠讓芯片工藝擴展到32nm以下。
這里提到的極紫外光。據悉，荷蘭ASML公司需要以每秒5萬次的頻率，對液態錫的液滴****高能激光束才能得到。
EUV光刻系統有兩個特點：
●可精確控制光束，其精度就好比從地球上發出的手電筒光線。可以照到放置在月球上的一枚50分歐元硬幣一樣。
●使用的鏡片需極度平攤。假設你要制作一個像德國般大小的鏡片，其最高凸起物必須低于1毫米高。
一套EUV光刻系統包含一個重達7600公斤的大型真空室，而一套EUV光刻系統有18萬公斤重。
*本文參考《EUV是什么？》，芯通社綜合整理
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