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	galaxy s21 ultra
        

        
	
        
    	
        
    	  	
        
              	
        
                	
        galaxy s21 ultra 文章
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        三星推出采用英偉達圖睿2芯片的平板電腦
        
                                                            
          
                    	
        • 　　英偉達公司與三星電子今天發布了Galaxy Tab 10.1。這款屏幕為10.1英寸的平板電腦采用英偉達圖睿(Tegra)2移動超級芯片，因而可充分利用Android 3.0(亦稱作Honeycomb)用戶界面。
　　
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        • 關鍵字：
                        英偉達  三星  Galaxy Tab 10.1                          
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        三星宣布Galaxy S全球總銷量已達500萬部
        
                                                            
                                        
          
                    	
        • 　　三星今日宣布，其Galaxy S智能手機的全球總銷量已經達到500萬部。
　　三星于今年夏季推出Galaxy S手機。在早期銷售階段，這款手機在美國市場的銷量最多，上市銷售1個月的銷量就達到200萬部。這款手機在韓國市場的銷量也很可觀，總銷量已達100萬部。
　　這樣的銷售成績對三星來說可謂喜憂參半。雖然Galaxy S在美國市場的暢銷已經使它成為美國最受歡迎的Android手機之一，但它近期在韓國市場的銷售情況說明消費者對它的興趣已迅速降低。
　　據三星稱，截至8月底，Galaxy S在韓國的
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        • 關鍵字：
                        三星  Galaxy                          
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        Design Compiler 2010將綜合和布局及布線的生產效率提高2倍
        
                                                            
          
                    	
        • 　　全球領先的半導體設計、驗證和制造的軟件及知識產權(IP)供應商新思科技有限公司日前宣布：該公司在其Galaxy™設計實現平臺中推出了最新的創新RTL綜合工具Design Compiler 2010，它將綜合和物理層實現流程增速了兩倍。為了滿足日益復雜的設計中極具挑戰性的進度要求，工程師們需要一種RTL綜合解決方案，使他們盡量減少重復工作并加速物理實現進程。為了應對這些挑戰，Design Compiler 2010對拓撲技術進行擴展，為Synopsys旗艦布局布線解決方案IC Compile
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        • 關鍵字：
                        Synopsys  Galaxy  RTL                          
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        薄晶圓系統提高批量制造超薄晶圓處理能力
        
                                                            
          
                    	
        • 　　基于極其成功的Galaxy印刷設備，得可已利用卓越的精準技術開發了專門處理超薄晶圓的系統。新的Galaxy薄晶圓系統提供杰出的穩定性、工藝能力提高到Cp>2@+/-12.5μm、并擁有先進的速度和加速控制，確保強健地處理當今易損的晶圓產品。
　　Galaxy薄晶圓系統的杰出工藝能力核心是專業設計的晶圓托盤，提供輸送和加工75微米薄晶圓時正確固定晶圓所需的支撐和穩定性。約400毫米見方的得可晶圓托盤，平整度小于10微米，且能容納300毫米大的晶圓。仔細的選擇和多孔材料的使用確保薄晶圓的安全
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        • 關鍵字：
                        Galaxy  晶圓  托盤                          
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        中芯國際和新思科技攜手推出Reference Flow 4.0
        
                                                            
          
                    	
        • 　　全球領先的半導體設計、驗證和制造軟件及知識產權(IP)供應商新思科技公司與中國內地最大的芯片代工企業中芯國際集成電路制造有限公司日前宣布，將攜手推出全新的65納米RTL-to-GDSII參考設計流程4.0(Reference Flow 4.0)。作為新思科技專業化服務部與中芯國際共同開發的成果，該參考流程中增加了 Synopsys Eclypse™ 低功耗解決方案及IC Compiler Zroute布線技術，為設計人員解決更精細工藝節點中遇到的低功耗和可制造性設計(DFM)等問題提供更多
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        • 關鍵字：
                        中芯國際  65納米  Galaxy  RTL-to-GDSII參考設計流程4.0                          
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        galaxy s21 ultra介紹
        
      			
        
		      	
        
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