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        GlobalFoundries 32nm SOI制程良率突破兩位數

        作者: 時間:2009-10-09 來源:brightsideofnews 收藏

          在最近召開的GSA會議(GSA Expo conference)上,公司宣稱其使用 制程工藝制作的24Mbit SRAM芯片的良率已經達到兩位數水平,預計年底良率有望達到50%左右。同時會在這個會議上展示其最新的制造設備。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/98663.htm

          據稱目前Intel Bulk制程技術的良率應已達到70-80%左右的水平,而且已經進入正式量產階段,在制程方面他們顯然又領先了一大步。不過按AMD原來的計劃,32nm 制程將在2011年前開始采用,所以留給公司的時間應該是足夠的。

          GlobalFoundries公司的這種32nm 制程工藝中啟用了HKMG(High-k+金屬門結構)技術,同時采用的是“Gate First”工藝(金屬門積淀過程排在漏源級高溫處理工步之前),而他們的32nm Bulk HKMG制程也將采用“GATE First"工藝進行制作。有趣的是,不久前GlobalFoundries的東家ATIC又收購了新加坡特許半導體公司,這家公司也是”Gate first“工藝的堅定擁護者。

          而Intel則自采用金屬門結構后,一直都在采用”Gate last“技術;另外一家大廠臺積電則屬于騎墻派,兩種技術皆有采用,但現階段以“Gate first”為主。

          除了主力的SOI工藝之外,在Bulk工藝部分,GlobalFoundries也宣稱他們已經制出首片28nm制程的SRAM芯片,并稱這種芯片內部的SRAM存儲單元尺寸為業界最小,僅0.12平方納米.



        關鍵詞: GlobalFoundries 32nm SOI

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