北方微電子三種高端設(shè)備亮相SEMICON

　　為了應(yīng)對市場變化，北方微電子在集成電路設(shè)備研發(fā)的基礎(chǔ)上加大了太陽能電池領(lǐng)域高端設(shè)備的研發(fā)投入，開發(fā)出集成電路12英寸65納米硅刻蝕機(jī)、晶硅太陽能電池PECVD設(shè)備和薄膜太陽能電池PVD設(shè)備，三種高端設(shè)備將在本次展會上同時亮相。

　　北方微電子新研制的1 2 英寸NMC612A等離子刻蝕機(jī)，在滿足用戶對65納米多種硅刻蝕工藝需求的同北方微電子三種高端設(shè)備亮相SEMICON時，強(qiáng)調(diào)大工藝窗口，小占地空間，低耗材價格，高智能軟件等幾大優(yōu)勢，同時還注重45納米的工藝延伸能力。經(jīng)過一年的生產(chǎn)線驗證，已經(jīng)得到了生產(chǎn)線的較高評價。

　　針對綠色能源產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展，北方微電子快速響應(yīng)市場需求，開發(fā)完成了新型晶硅太陽能電池設(shè)備ESSINDTM平板式PECVD系統(tǒng)。該設(shè)備用于晶硅太陽能電池的減反射和鈍化工藝的氮化硅薄膜沉積，是國產(chǎn)先進(jìn)的大產(chǎn)能平板式設(shè)備。

　　同時，北方微電子非常重視薄膜太陽能領(lǐng)域的發(fā)展，通過與國外公司技術(shù)合作，成功開發(fā)出ROCSTM1500太陽能平板式PVD設(shè)備，主要應(yīng)用于5代薄膜太陽能電池面板的金屬化、TCO透明電極制備和窗口層/吸收層制備工藝，該設(shè)備在晶硅太陽能和TFT等領(lǐng)域也有廣泛的應(yīng)用前景。