2008年上海NEPCON期待得可更多

　　團(tuán)隊(duì)正計(jì)劃在今年4月8日至11日光大會(huì)展中心舉辦的中國(guó)上展示大量的尖端印刷平臺(tái)和生產(chǎn)力工具，以獨(dú)有風(fēng)格慶祝其作為批量印刷引領(lǐng)者的40 周年。到訪者可在得可1B30 展位現(xiàn)場(chǎng)了解其專家技術(shù)。

　　Nepcon上海展示的得可技術(shù)將反映公司就其期待更多的理念的承諾，特別推出一直以來提供更多價(jià)值、生產(chǎn)力和創(chuàng)新的技術(shù)突破。其中之一便是得可展臺(tái)上全新的Photon Vi平臺(tái)，可提供前所未有的大范圍精密印刷。易于為重至16.5磅（7.5公斤）和大至25.4” x 24”（610毫米 x 610毫米）的大型電路板進(jìn)行細(xì)距印刷的Photon Vi，是先進(jìn)技術(shù)背板、太陽能和燃料電池板及多層基板印刷生產(chǎn)的理想解決方案。

　　Nepcon上海的到訪者將通過與得可團(tuán)隊(duì)的溝通，了解Photon平臺(tái)內(nèi)首屈一指的運(yùn)動(dòng)控制、位敏技術(shù)和優(yōu)化印刷機(jī)網(wǎng)框。此外，得可團(tuán)隊(duì)將通過介紹若干項(xiàng)其他的突破性配置，進(jìn)一步展示Photon平臺(tái)的內(nèi)在靈活性。提供突破性生產(chǎn)力優(yōu)勢(shì)的Photon雙軌，令制造商們通過架構(gòu)配置兩臺(tái)印刷機(jī)加倍其生產(chǎn)線產(chǎn)量。削減生產(chǎn)線占地面積的同時(shí)極大提高生產(chǎn)量的Photon雙軌，將連同配備整套生產(chǎn)力工具的標(biāo)準(zhǔn)Photon印刷機(jī)展出。

　　Photon的技術(shù)展示將特別推出得可公認(rèn)的ProFlow®封閉印刷頭系統(tǒng)。適應(yīng)行業(yè)逐漸注重的小型化和速度，ProFlow明顯提高產(chǎn)量、改善加工能力并削減材料消耗。提供較傳統(tǒng)高速點(diǎn)膠系統(tǒng)大量節(jié)約成本的ProFlow，不僅大幅提高預(yù)貼裝效率，且提供巨大的環(huán)境效益并給予操作員簡(jiǎn)便使用。

　　圍繞高效生產(chǎn)力的主題，得可團(tuán)隊(duì)更將在展位1B30展示HOZ 02i印刷平臺(tái)。快速的裝配和轉(zhuǎn)換能力使HOZ 02i成為以全產(chǎn)能產(chǎn)出水平進(jìn)行原型和首款制造的完美解決方案。得可展位上的連線平臺(tái)ELAi，將突出贏取多獎(jiǎng)項(xiàng)Cyclone網(wǎng)板下擦拭系統(tǒng)和突破性HawkEye™高速的選項(xiàng)。其他包括得可廣受歡迎的VectorGuard®網(wǎng)板系統(tǒng) – 為極小細(xì)距印刷特別推出的新近發(fā)布的VectorGuard Platinum – 及其精密網(wǎng)板和全系列優(yōu)質(zhì)耗材。