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2008年上海NEPCON期待得可更多

• 　　團(tuán)隊(duì)正計(jì)劃在今年4月8日至11日光大會(huì)展中心舉辦的中國(guó)上展示大量的尖端印刷平臺(tái)和生產(chǎn)力工具，以獨(dú)有風(fēng)格慶祝其作為批量印刷引領(lǐng)者的40 周年。到訪者可在得可1B30 展位現(xiàn)場(chǎng)了解其專家技術(shù)。 　　Nepcon上海展示的得可技術(shù)將反映公司就其期待更多的理念的承諾，特別推出一直以來(lái)提供更多價(jià)值、生產(chǎn)力和創(chuàng)新的技術(shù)突破。其中之一便是得可展臺(tái)上全新的Photon Vi平臺(tái)，可提供前所未有的大范圍精密印刷。易于為重至16.5磅（7.5公斤）和大至25.4” x 24”（610毫米 x 6
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