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        針對低耗能應用,ARM和聯華電子推出全新55奈米ULP實體IP解決方案

        作者: 時間:2015-05-18 來源:電子產品世界 收藏

          全球IP硅智財授權領導廠商®與全球晶圓專工大廠聯華電子今(18)宣布® Artisan®實體IP解決方案的新進展,加速以處理器為核心的嵌入式系統和物聯網相關應用蓬勃發展。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/274362.htm

          聯華電子的55奈米超低功耗製程(55ULP)技術已成為低耗能物聯網應用的最佳解決方案。新推出的實體IP產品將有助于晶片設計團隊,加速并簡化為物聯網和其他嵌入式系統開發ARM系統單晶片()。

          對許多講求低耗電的應用而言,盡可能最大化電池使用壽命是成功設計的關鍵。Artisan®實體IP平臺將強化聯華電子的ULP技術,最大化電源效率和降低漏電功耗。主要功能如支援厚閘極氧化層(thick gate oxide)和多通道長元件庫,讓工程師能運用各種工具實現物聯網應用的最佳化設計。

          ARM實體IP設計事業部總經理Will Abbey指出:「完整的實體IP基礎平臺對聯電55ULP製程實現物聯網應用低功耗和低成本設計至關重要。針對低功耗所需的最佳化元件庫,ARM和聯電提供工程師一套完善的全新開發工具。」

          聯華電子硅智財研發暨設計支援處資深處長林世欽表示:「物聯網晶片工程師經常被要求以更快的速度,設計出更省電的高度整合解決方案。聯華電子擁有晶圓專工產業最強大的物聯網專用55奈米技術平臺,全面且完整的IP資源可以滿足物聯網產品永遠連線且超低耗電的要求。聯電55ULP平臺納入Artisan實體IP之后,可立即增加工具選項,有助于降低設計複雜度和加速上市時程。」

          Artisan元件庫將支援:

          • 0.9v 超低電壓范圍,和1.2v電壓范圍操作相比,最高可節省44%動態電力和25%漏電功耗

          • 多通道元件庫提供各種臨界電壓(Vt)選項,可讓SoC工程師在漏電功耗和效能之間有多種組合選擇。長通道元件庫可進一步降低高達80%的漏電。電源管理工具組(PMK)可減少動態電力和漏電的損失。

          • 創新的厚閘極氧化層元件庫可大幅降低不斷電元件(always ON cells)的漏電值(比一般標準電路低350倍)。此元件庫可與較高電壓(包括物聯網裝置使用的電池電壓)連接,因此還具備了免裝電壓調節器的優勢。

          • 次世代高密度記憶體編譯器提供多重電力整合模式,在極小化待機漏電功耗時保留存儲狀態。運用這些模式,SoC工程師可比一般待機減少高達95%的漏電。

          聯華電子 55ULP 實體 IP 即日起于 ARM DesignStart 網站供貨。

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        關鍵詞: ARM SoC

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