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        短溝道MOSFET散粒噪聲測試方法研究

        作者: 時間:2015-04-07 來源:網絡 收藏

          3 測試結果及討論

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/272135.htm

          圖3和圖4分別為器件工作在亞閾區和反型區條件下,電流噪聲功率譜隨漏源電流的變化情況。

          

         

          由圖中可以看出,在亞閾區,小漏源電流的條件下,溝道電流和電流噪聲功率譜呈現線性關系,證明器件在此工作條件下存在散粒噪聲。相比于長溝道器件,短溝道器件溝道源區附件明顯存在一個勢壘,勢壘高度隨柵源電壓的增大而增大,隨漏源電壓的增大而減小。在此偏置條件下,溝道內電場強度很小,擴散電流成分顯著,擴散電流隨機通過源極附近勢壘,引起散粒噪聲。隨著漏源電壓的增大,溝道內電場增強,勢壘減小,漂移電流成為主要成分,散粒噪聲隨之被抑制。

          在反型區,小的漏源電流條件下,器件工作在線性區。如圖4所示,與亞閾區類似,可以看到明顯的散粒噪聲成分。但是隨著漏源電流的增大,在漏源電流大約為0.5μA時,器件進入飽和區。此時源區勢壘和溝道內擴散電流成分顯著減小,因此導致由擴散電流引起的散粒噪聲減小。但此時漏端溝道正好處在夾斷點位置,載流子通過夾斷點耗盡區是彈道傳輸模式,引起了散粒噪聲的產生,導致散粒噪聲再次隨漏源電流的增大而增大。但隨著漏源電流的繼續增大,夾斷區長度不斷增加,載流子在夾斷區散射增強,散粒噪聲再次被抑制。

          4 結束語

          針對散粒噪聲難以測量的特點,文中提出了一種低溫散粒噪聲測試方法。在屏蔽環境下,將被測器件置于低溫裝置內,有效抑制了外界電磁波和熱噪聲的干擾。采用背景噪聲充分低的放大器以及偏置器、適配器等,建立低溫散粒噪聲測試系統。應用本系統對短溝道器件進行噪聲測試,分析該器件散粒噪聲的特性。文中的工作為器件散粒噪聲測試提供了一種方法,對短溝道MOSFET散粒噪聲特性進行了分析。


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        關鍵詞: MOSFET

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