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        力旺攜手中芯,擴大eNVM布局

        作者: 時間:2014-01-03 來源:工商時報 收藏

          力旺(3529)宣布,與中國晶圓代工廠國際,共同宣布,已聯手擴大在非揮發性記憶體技術上的發展布局,合作制程涵蓋0.35微米至40奈米等,橫跨NeoBit、NeoFuse、NeoEE與NeoMTP等單次與多次可程式嵌入式非揮發性記憶體技術()。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/215103.htm

          力旺電子表示,與國際自2004年起展開合作,迄今成果豐碩。合作制程的類型涵蓋邏輯、高壓、類比與BCD等,應用產品包括數位機上盒、多媒體播放機、電源管理晶片、微控制晶片、藍芽控制晶片與無線射頻識別晶片等。

          力旺表示,雙方聯手推出OTP解決方案,基于國際的0.18微米和0.13微米的電源管理制程平臺為客戶提供高可靠性和成本效益的電源管理解決方案,該解決方案有利協助類比和電源管理的客戶獲得智慧型手機、平板電腦、以及新興可穿戴設備等廣闊市場的策略優勢。此外,雙方積極開發解決方案,針對需要多次重復讀寫資料、以及對安全可靠性有高度需求的應用市場,可充分滿足客戶對低成本、高性能與高可靠度等多樣化的需求。



        關鍵詞: 中芯 eNVM

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