ASML開始供應透射率超過90%retical的EUV系統

ASML 公司近日宣布將會自今年開始，提供透射率超過 90% retical的極紫外（EUV）系統。ASML 韓國市場經理 MyoungKuy Lee 在 SMC 韓國研討會上說，該公司將開始生產透射率超過 90.6% 的薄片。Lee 表示通過和 Teradyne 公司的共同合作，這些薄片已經確保了 400 瓦的功率耐久性。這家位于荷蘭的工廠設備制造商在 2016 年首次開發了多晶硅 EUV 薄膜。當時，它的透光率為78%。它在 2018 年開發出的透光率約為 80%，另一種在 2020 年超過 85%。