佳能發布FPD曝光設備“MPAsp-E903T”, 應用于高精細中小型顯示面板制造且解析度達1.2μm

佳能^※1將于2020年11月下旬正式發售FPD（Flat Panel Display）曝光設備新產品“MPAsp-E903T”。該產品可應對第6代玻璃基板尺寸^※2，針對因進一步高精細化而備受期待的新一代中小型顯示面板市場，可以實現1.2μm^※3的解析度（L/S^※4）。

MPAsp-E903T

■   實現FPD曝光設備中的1.2μm高解析度顯示面板技術隨著OLED的普及逐漸向高精細化方向發展，同時在智能手機上的應用變得越來越薄型化、輕量化，而在折疊式應用上趨向不斷大型化。另一方面，在VR相關的顯示產品上小型化的趨勢也在不斷發展，呈現多樣化的需求。新產品可以應對新一代顯示面板制造中不可或缺的高精細化需求，致力于實現多種面板的生產制造。

在佳能的FPD曝光設備中，新產品首次※5搭載使用了DUV（深紫外線）※6波長的新光源。該產品充分利用了鏡面光學系統特有的優點，即使波長變化對色差影響很小，通過使用比以往的紫外線波長更短的新光源以及新開發的投影光學系統，實現了1.2μm解析度的曝光。如果應用相移掩模等超解析技術※7可進一步實現1.0μm解析度的曝光，助力顯示技術的高精細化發展。

■   多樣化的曝光模式，用戶可靈活構建工藝產線

在搭載新投影光學系統和新光源系統的基礎上，新產品增加了曝光模式數量，可匹配合適的曝光條件，實現多種電路圖的高效曝光。此外，新產品還可以與掩模版尺寸和設備界面都共通的上一代機型“MPAsp-E813H”（2014年9月發布）組合使用，便于用戶靈活地構建工藝產線。

■   兼顧生產性，提升套刻精度

通過設備內部布局和溫度調節系統的改進，實現了±0.25μm的高套刻精度（重合性精度）。因此，該產品可以有效滿足用戶高精細面板生產的需求。

※1  為方便讀者理解，本文中佳能可指代：佳能（中國）有限公司，佳能股份有限公司，佳能品牌等

※2  1,500×1,850mm尺寸的玻璃基板，應用于以智能手機為代表的中小型顯示面板的制造中。

※3  1μm為百萬分之一米（＝1mm 的千分之一）。

※4  Line and Space的簡稱。Line（線程）和Space（間距）等距離間隔排列電路圖。

※5  針對FPD曝光設備。截至2020年11月9日。（佳能調查）

※6  Deep ultra-violet的簡稱。與以往的FPD曝光設備使用的紫外線相比更短波長的紫外線。

※7  控制光的位相或強度，使曝光設備解析度提升的技術。

＜主要特點＞

1. 實現FPD曝光設備中的1.2μm高解析度

●   在FPD曝光設備中，新產品首次搭載使用DUV（深紫外線）波長的新光源。充分利用了即使波長變化也對色差影響很小的鏡面光學系統所特有的優點，實現了比以往所使用的g線（436nm※），h線（405nm）和i線（365nm）更短的290～380nm。由于使用了新光源以及新開發的投影光學系統，新產品實現了1.2μm解析度曝光，可以推進顯示面板的進一步高精細化。

●    應用相移掩模等超解析技術可實現1.0μm解析度的曝光。

新DUV光源和新光學系統示意圖（外觀從右側觀看主機時）

新舊光源波長分布比較

※1nm（納米）等于10億分之1米。

2. 多樣化的曝光模式，用戶可靈活構建工藝產線

在搭載新投影光學系統和新光源系統的基礎上，新產品增加了曝光模式數量，可匹配合適的曝光條件，實現

多種電路圖的高效曝光。采用和上一代機型“MPAsp-E813H”共通的掩模版尺寸和設備交互界面，可實現新舊機型的組合使用，削減運營成本，便于用戶靈活構建工藝產線。

電路圖形和曝光模式的種類

※1　Line and Space的略稱。Line（線程）和Space（間距）等距離間隔排列電路圖。

※2　Contact Hole的略稱。為形成配線貫穿復數層的圓形電路。

※3　σ（sigma）表示，光源系統NA（開口數）和投影系統NA（開口數）的比率。

3. 兼顧生產性，提升套刻精度

通過設備內部布局和溫度調節系統的改進，實現±0.25μm的高套刻精度（重合性精度）。因此，新產品可以有效地滿足用戶高精細面板生產的需求。

＜新產品介紹視頻＞

新產品的技術介紹視頻在佳能官網上現已發布。視頻配有針對產品特點的清晰易懂的解說。

＜中小型顯示面板制造設備的市場動向＞

顯示面板技術隨著OLED的普及逐漸向高精細化方向發展，同時在智能手機上的應用變得越來越薄型化、輕量化，而在折疊式應用上趨向不斷大型化。另一方面，在VR相關的顯示產品上小型化的趨勢也在不斷發展，呈現多樣化的需求。因此，FPD曝光設備致力于超高精細和可折疊式等高附加值顯示面板的量產。