華虹12寸晶圓廠裝備大陸最先進沉浸式光刻機：邁向14nm

　　中芯國際花了1.2億美元從荷蘭ASML(阿斯麥)買來一臺EUV極紫外光刻機，未來可用于生產7nm工藝芯片，長江存儲也迎來了自己的第一臺光刻機，同樣來自ASML，不過是193nm沉浸式，用于產20-14nm工藝的3D NAND閃存晶圓，7200萬美元一臺。

　　據集微網報道， 5月21日上午，在上海浦東新區康橋工業園南區，華虹集團旗下上海華力集成電路制造有限公司建設和營運的12英寸先進生產線建設項目(“華虹六廠”)實現首臺工藝設備光刻機搬入。

　　這臺光刻機的型號是NXT 1980Di，依然是荷蘭ASML提供，后者官方顯示，這是一臺193nm雙級沉浸式光刻機，用于10nm級(14～20nm)晶圓生產，它也是大陸裝備的最先進的沉浸式光刻設備。

　　華力微電子官網資料顯示，華虹六廠是該司的第二個12英寸晶圓生產線，設計月產能4萬片，工藝技術從28nm起步，最終將具備14nm三圍工藝的高性能芯片生產能力。

　　另外，根據賽迪顧問的統計，按照銷售額，上海華虹位列2017年國內十大集成電路制造企業第五位。