SK集團(tuán)加速半導(dǎo)體垂直整合 SK Innovation開發(fā)半導(dǎo)體材料

　　SK集團(tuán)(SKGroup)在接連購并OCIMaterials與樂金Siltron(LGSiltron)之后，子公司SKInnovation也將發(fā)展半導(dǎo)體材料事業(yè)，加速以SK海力士(SKHynix)為主軸的材料、零組件事業(yè)垂直整合。

　　據(jù)韓媒ETNews報(bào)導(dǎo)，業(yè)界消息表示，SKInnovation以對SK海力士供應(yīng)產(chǎn)品為目的，正從事光阻劑(Photoresist)研發(fā)。近期SKInnovation已將少量光阻劑樣品交給SK海力士進(jìn)行測試，后續(xù)經(jīng)由意見回饋改善品質(zhì)后，朝向量產(chǎn)目標(biāo)邁進(jìn)。

　　光阻劑用在硅晶圓的曝光制程，與通過光罩的光作用形成電路圖形。曝光設(shè)備與材料依照曝光波長分為G-line、I-line、KrF、ArF與極紫外光(EUV)等多種方式，其中以極紫外光最為先進(jìn)。

　　SKInnovation開發(fā)的是用在生產(chǎn)3DNANDFlash的KrF光阻劑，涂布在晶圓上時(shí)必須形成10?以上的厚膜，之后才能順利將存儲器單元(Cell)堆疊成垂直構(gòu)造。

　　ArF與極紫外光的光阻劑材料市場主要由信越化學(xué)(Shin-EtsuChemical)、住友化學(xué)(SumitomoChemical)、東京應(yīng)化工業(yè)(TOK)、JSR等日本業(yè)者掌握;南韓東進(jìn)世美肯(DongjinSemichem)與德國默克(Merck)供應(yīng)技術(shù)難易度相對較低的3DNANDFlashKrF光阻劑。

　　SKInnovation表示，公司從2年前開始著手研發(fā)光阻劑等電子材料，希望能以石油、潤滑油領(lǐng)域累積的技術(shù)能量，也在特殊化學(xué)材料市場取得斬獲。

　　SK集團(tuán)在將海力士納入旗下后，開始以購并策略強(qiáng)化半導(dǎo)體材料、零組件事業(yè)能量。2016年1月買下半導(dǎo)體特殊氣體業(yè)者OCIMaterials并更名為SKMaterials。

　　SKMaterials生產(chǎn)三氟化氮(NF3)，用來清除半導(dǎo)體機(jī)臺腔體內(nèi)的殘留物質(zhì)，全球市占率第一。2016年SKMaterials先后與日本TriChemicalLaboratories及昭和電工(ShowaDenko)合資成立子公司SKTriChem、SKShowaDenko。

　　SKTriChem生產(chǎn)鋯(Zr)系前驅(qū)體(Precursor)高介電(High-K)蒸鍍材料;SKShowaDenko生產(chǎn)蝕刻氣體三氟甲烷(CH3F)。這兩項(xiàng)材料都將對SK海力士供應(yīng)。

　　2017年初SK集團(tuán)再度向樂金集團(tuán)(LGGroup)購買硅晶圓公司樂金Siltron過半數(shù)股權(quán)。先前SK海力士分別向信越化學(xué)、Sumco、SunEdisonSemiconductor、Siltronic及樂金Siltron等5家供應(yīng)商采購硅晶圓，未來應(yīng)會增加對樂金Siltron的采購量。

　　業(yè)界表示，2015年SK集團(tuán)會長崔泰源訂定2020年集團(tuán)營收目標(biāo)200兆韓元(約1,779億美元)，并選定多項(xiàng)領(lǐng)域作為新樹種事業(yè)培育，其中規(guī)模最大的就是半導(dǎo)體及相關(guān)材料與零組件事業(yè)。之后SK集團(tuán)主要子公司紛紛投入相關(guān)研發(fā)，如SKC的子公司SKCSolmics正在開發(fā)光罩基底(MaskBlank)。

　　日本Hoya、成膜光電(Ulcoat)是光罩基底市場主要供應(yīng)商，南韓業(yè)者S&STech也自主研發(fā)，將產(chǎn)品往海外市場銷售。SKCSolmics若能成功將光罩基底帶入商用化，未來可望大幅提高營收。

　　SKInnovation對開發(fā)3DNANDFlash的KrF光阻劑傳聞表示，光阻劑等各種電子材料化學(xué)產(chǎn)品都還在開發(fā)階段，是否進(jìn)行量產(chǎn)還需經(jīng)過審慎評估才能確定。