國家存儲器基地動土　要建3座全球最大3D NAND廠

　　傾大陸國家之力的中國長江存儲存儲器基地正式于2016年12月30日開工，而此項目前身為武漢新芯存儲器基地，在歷經中國紫光與武漢新芯合體后，重新找地建新廠，強調要打造全球單座潔凈室面積最大的3DNANDFlash新廠。

　　紫光集團于2016年12月30日在大陸武漢東湖高新區舉移動土典禮，宣布中國國家存儲器基地正式開工，該建設項目聯合紫光集團、國家集成電路產業地方基金(大基金)、湖北省地方基金、湖北省科投等共同出資，項目總投資金額達240億美元。

　　紫光集團暨長江存儲董事長趙偉國趙偉國典禮中強調，國家存儲器基地正式動土開工不僅僅是一個項目的開工，更代表大陸存儲器芯片規模化發展的突破，而存儲器基地也是中國積體電路產業單向投資最大的項目。

　　存儲器基地位于武漢東湖高新區“武漢未來科技城”，據悉，此項目前身為2016年5月才動土的武漢新芯存儲器基地，而在7月武漢全城淹水后，中國紫光與武漢新芯合組長江存儲公司，高層在重新視察后，南移至同位于武漢東湖高新區的豹澥地段。

　　該地占地1,968公畝(約595萬坪)，官方宣布將建設全球單座潔凈室面積最大的3DNANDFlash廠房3座，以及1座總部大樓和落干配套建筑，核心廠房與設備每平方公尺投資將超過3萬美元，同樣預期于2018年完成建廠投產，2020年完成整個項目，總產能同先前目標，將達到一個月30萬片，官方預估年產值逾100億美元。

　　業界人士指出，雖然紫光集團強調技術自主研發，但近期已積極對臺展開大規模挖角移動，值得有關單位和企業密切注意。