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        FinFET技術發明人胡正明:網速有千百倍成長空間

        作者: 時間:2016-11-17 來源:中央社 收藏

          半導體領域技術發明人胡正明說,由于半導體技術的突破,網際網路的速度和普及度還有千百倍的成長空間。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/201611/340333.htm

          在中國大陸烏鎮舉行的第3屆世界互聯網大會,今年首次舉辦“世界互聯網領先科技成果發布活動”,由海內外網路專家組成的專家征集并評選出15項最尖端的技術成果和最具創新性的商業模式。胡正明及其率領的研究團隊,在半導體微型化的突破成就是其中之一。

          胡正明率領的美國加州大學柏克萊分校團隊,將平面二維晶體管創新制作成垂直三維的“鰭式電晶體”,讓半導體微型化空間大幅成長,并由英特爾率先采用。如今,華為、三星、小米、蘋果都在使用這個技術的產品。

          他說,半導體技術是網路一個重要的支柱和驅動力,透過這樣的新技術,能改善網路的速度和成本,網路的速度和普及度還有千百倍的成長空間。

          胡正明曾任臺積電首任技術長,他同時也是美國國家工程院院士、大陸的中國科學院外籍院士。

          胡正明告訴中央社記者,臺灣在半導體產業上的優勢是發展歷史較早,具備人才和經驗。

          對于近年兩岸在半導體產業上的競合,他說,生意上又要合作又要競爭,的確很難,但希望是良性競爭。至于大陸要花多少年就會在半導體領域趕上,他認為很難評估。

          今天所發布的領先科技成果,還包括IBM Watson類腦計算機、特斯拉第2代自動輔助駕駛硬體、微軟HoloLens擴增實境眼鏡、華為麒麟960手機晶片、高通5G通訊技術創新、三星復合生物訊號處理器等,幾乎都與半導體應用有關。



        關鍵詞: FinFET

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