集成電路設備

(1)集成電路前工藝設備根據其工藝性質，主要有以下幾種。

外延爐：用于外延材料生長。

氧化擴散設備：用于制取氧化層和實現摻雜。

制膜設備：主要有電子束蒸發臺、磁控濺射臺、等離子體增強化學汽相淀積(PECVD)設備。

離子注入機：用于高精度摻雜，根據注入能量、束流大小和硅片尺寸不同有多種規格。

腐蝕、刻蝕設備：主要AD7890BN-4有化學濕法腐蝕和等離子體化學干法刻蝕設備，干法刻蝕具有良好的選擇性和定向性。

光刻設備：有勻膠機、曝光機、顯影設備、堅膜烘焙機等設備。

純水制取設備：用于為工藝生產提供純凈無雜質、無細菌的水。

環境控制設備：包括水、風、電、氣、冷、濕、暖七大類型，主要是為集成電路生產提供潔凈的環境，必要的動力和恒定的溫度、濕度。

在線檢測儀器：主要用于檢驗、測控集成電路制造過程中的各種工藝參數，主要有膜厚測量儀、結深測量儀、C-V特性測量儀、C-T特性測量儀、薄膜應力測試儀、表面缺陷檢查儀、激光橢偏儀、線寬測量儀、電子顯微鏡、原子力顯微鏡等，還有各種放大倍率的光學顯微鏡、晶體管特性圖示儀等部分常規儀器。

(2)后工藝的主要設備有以下幾種。

裂片機：主要用于對加定完畢的硅片上的集成電路進行分割，壓焊機：包括有超聲、金球焊接設備，實現管芯內部引線端與外管殼外引線的電氣連接。

封裝設備：按不同工藝，有儲能對象機、平行封焊機、玻璃熔封設備、塑封機以及激光電子束封貼機等。

老化篩選設備：有高／低溫箱，靜／動態老化臺，各種測試儀器、儀表、離心、振動等設備。